触媒の予硫化時の注意事項
Thread Content
触媒の硫化過程でなぜ冷たい水素や廃水素の使用が許されないのか。
硫化時には循環ガス中の硫化水素濃度に要件があり、排出される水素は硫黄の損失を引き起こす。
つまり、硫化プロセス中に反応器中央部の冷ヒ素タンクの冷ヒ素ガス分配器から反応系へヒ素を供給しないということですか？一般的に冷たい水素タンクは反応器の中央部に配置されているため、もちろん反応器の上部から水素と所定濃度の硫化剤を供給し、気相が反応器の上部と下部をスムーズに通過することで、すべての触媒が反応に参加し、完全に硫化されるのである。廃水素を排出すると、確実に硫化水素濃度が低下し、触媒の反応が不完全になる。
予硫化工程における硫化水素の含有量は1％から0.5％の間でなければならず、高くなりすぎた場合はDMDSの注入量を減らす必要がある；低くなったら注入量を増やす必要がある。一般的に水素は循環水素圧縮機から供給され、これにより反応器内の循環水素中の硫化水素濃度が安定し、予備硫化速度を効果的に制御することができる。 反応器の冷却水素タンクから注入する場合、狭い空間内で水素濃度が高く、硫化水素濃度が低くなるため、各層や層の中心および周辺での予硫化の進行が均一でなく、予硫化の安定性に影響を与えます。 廃水素を排出しない理由も、循環水素ガス中の硫化水素含有量の問題にある。一般的には、廃水素を排出するのではなく、DMDSの注入量を減らす方法によって硫化水素含有量を低減する措置が取られます。別の観点から言えば、DMDSの総量を節約し、コストを削減することもできます。
水素化分解触媒の硫化時には、温度上昇を抑制するために冷却水素の注入が許可されており、詳細については触媒メーカーと相談することができる
ありがとうございます、わかりました。説明がとても分かりやすかったです。ありがとうございました。
冷たい水素を注入しないことで、硫化剤の分布が不均一になる（乾式）ことによる触媒の硫化度のばらつきを防ぎ、初期の水素循環時における水素濃度が基準を満たさず水素含有量が高くなるのを防ぎ、触媒の局所的な還元を抑制すると考えています。 昇温速度の制御は、一般的にジメチルジスルフィドの注入量によって行われます。
冷たい水素を供給しないのは、触媒の硫化が不十分になるのを防ぐためであり、排出しないのは、硫化過程における硫化水素濃度が低くなるのを防ぐためです。