冷ヒドリド化ケイ素粉体輸送触媒添加方法に関する検討
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先輩の皆様、同僚の皆さん、こんにちは。現在、冷間水素化法による多結晶シリコン製造工程では、触媒として主に30KG/バレル入りの塩化銅または塩化亜銅が使用されており、作業員がシリコン粉末タンクの上部にある投入口から直接それを加えている（私が知っている限りでは）。これでは避けられないことですが、従業員の健康を害するだけでなく、触媒の無駄遣いにもつながります。では、もっと先進的な材料の調達方法はありますか？例えば、真空吸引はどうでしょうか。実施されていますか？
複雑な方法では触媒の無駄が増えるため、ここでは簡単な方法の方がより効果的である。もちろん、作業員は安全対策をしっかり行えばいいのです。
これは現実的ではないように思えます。ではシリコン粉と触媒を流動層に投入するとしても、その操作はあまりに煩雑で、フォークリフトや人手を使った方がましだ