【Diskussion gesucht】Kann Ausrüstung für ultrareines Wasser in der Elektronikindustrie eingesetzt werden? Erfüllen die Anforderungen an das Ausgangswasser diese Anforderungen?
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In den Computern und Handys, die wir im Alltag verwenden, befindet sich im Inneren ein Kern – und das ist der Chip. Jedoch hat alles eine Zeit, in der es schmutzig wird. An die Reinigung der Chips werden sehr hohe Anforderungen gestellt. Man kann sie nicht mit gewöhnlichem Leitungswasser oder normaler destilliertem Wasser reinigen. Stattdessen muss mithilfe der Entionisierungstechnik die Ionenverschmutzung aus dem Wasser entfernt werden, sodass es sich um neutrales, ultrareines Wasser handelt, das keine Elektrizitätsladung aufweist. http://www.lait Adelaide.com/uploads/allimg/130828/144Q924c-0.jpg Prinzip der Funktionsweise von Anlagen zur Aufbereitung ultrareinen Wassers 1. Das Wasser gelangt in das EDI-System – ein Teil fließt in die Struktur der Resine/Membranen, während ein anderer Teil an der Außenseite der Membranen entlangfließt, um die aus der Membran austretenden Ionen zu entfernen. 2. Das Harz bindet die im Wasser gelösten Ionen. 3. Unter dem Einfluss der Elektroden bewegen sich die zurückgehaltenen Ionen so, dass die Anionen in Richtung des Positivpolers und die Kationen in Richtung des Negativpolers wandern. 4. Die Kationen dringen durch die Kationenmembran und werden außerhalb der Resin sowie der Membran ausgeschieden. 5. Anionen dringen durch die Anionenmembran und werden außerhalb der Resin sowie der Membran ausgeschieden. 6. Die konzentrierten Ionen werden aus dem Abwasserstrom abgeleitet. 7. Ionenfreies Wasser fließt aus der Resin bzw. der Membran heraus. http://www.ediwater.cn/d/file/chanpin/chaochunshui/2013-07-05/3d1960e7544c66a3e7d0b5705735daf6.jpg Eigenschaften der Anlagen zur Aufbereitung von ultrareinem Wasser 1. Alle Komponenten sind importierte Produkte mit fortschrittlicher Technologie. 2. Zuverlässige Qualität, hohe Integrationsgrad – leicht erweiterbar; durch Hinzufügen weiterer Membranen kann die Verarbeitungskapazität erhöht werden. 3. Hohe Automatisierungsstufe: Bei Störungen stoppt das Gerät sofort selbst – es verfügt über eine automatische Schutzfunktion. 4. Die Membrankomponenten bestehen aus zusammengesetzten Membranrollen und weisen eine höhere Trennleistung sowie eine schnellere Durchflussrate für Lösungsmittel auf. 5. Geringer Energieverbrauch, hohe Wassernutzungsrate, niedrige Betriebskosten. 6. Geeignete Struktur, geringer Flächenbedarf. 7. Ein fortschrittliches Membranschutzsystem: Wenn die Anlage ausgeschaltet ist, spült das Entsalzwasser automatisch die Verunreinigungen von der Membranoberfläche weg und verlängert so die Lebensdauer der Membran. 8. Das System weist keine empfindlichen Bauteile auf, erfordert keine umfangreichen Wartungsarbeiten und ist langfristig einsetzbar. 9. Die Geräte sind mit einem Membranreinigungssystem sowie einem Kalkhemmungssystem ausgestattet. Autor dieses Artikels: Lightlead Hefei Wasserbehandlungsanlagen
Reinwassersysteme in der Elektronikbranche nutzen die Umkehrosmose-Technologie sowie gleichzeitig die EDI-Technologie. Die Anforderungen an die Wasserqualität sind sehr hoch und können bis zu **18,25 MΩ•cm des Standards** erreichen.
EDI ist nicht entscheidend; auch bei ultrareinem Wasser muss in der Elektronik eine Unterscheidung nach Qualität vorgenommen werden. Im Allgemeinen gelten für Chipwafer und TFT-Kristalle die höchsten Anforderungen. Neben den üblichen Megohm-Werten muss auch die Korngröße getestet werden. Der Standard ist, dass die Korngröße unter 0,2 liegen sollte – idealerweise 100. Im Elektronikbereich muss man daher nach der EDI-Behandlung auf zwei Dinge achten: 1. Das Wasser muss zirkulieren; sowohl am Ausgang als auch am Rückflusspunkt müssen Widerstandsmesser vorhanden sein. Schließlich führt bereits der Transport durch Rohre aus sauberem PVC zu erheblichen Verlusten an Qualität. Ich habe gesehen, dass bei Verwendung von C-PVC von Kyocera bereits nach 200 Metern der Widerstand von 18 auf 12 sank. 2. Das Wasser muss außerdem durch ein Filter mit einer Präzision von 0,2 µm gefiltert werden, um die Korngröße zu gewährleisten. Der Speicherbehälter muss außerdem mit sauberem CDA oder Stickstoff unter Druck gehalten werden