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El objetivo de la limpieza en las plantas de silicio polimórfico es tratar con un sistema químico que requiere una alta pureza, tiene procesos complejos y cuenta con una gran variedad de equipos (algunos de los cuales presentan características propias de los sistemas metalúrgicos y de los componentes electrónicos semiconductores). Para reducir el tiempo necesario para el proceso de purificación durante la puesta en marcha del sistema de producción, y así disminuir al máximo los costos asociados a esta fase (dado que la tasa de productos defectuosos es alta y el valor de los productos obtenidos es bajo), es necesario realizar un buen trabajo de limpieza de los equipos y tuberías antes de su instalación. De esta manera, se podrá producir polisilicio de alta pureza lo antes posible. Dependiendo de los diferentes requisitos de los procesos, del material de los equipos y de su tipo, así como de los requisitos de limpieza y de los estándares que deben cumplirse (como la ausencia de aceite, agua, polvo y impurezas, además de los requisitos relacionados con el recubrimiento previo del agua de circulación), es necesario utilizar métodos de limpieza diferentes. Los procesos de limpieza se pueden dividir en cuatro categorías: limpieza por pulverización, limpieza por circulación, limpieza por inmersión (método de inmersión en tanque y método de inmersión total) y limpieza por frotado.