HCBBS Forum (Bahasa Melayu)
Submit Chemical Projects / Find Solutions
Amplify Your Requirements on a Broader Chemical Platform *Engineering · Technology · Equipment · Solutions*
Submit Request

Mengenai masalah penyesuaian kandungan oksigen dalam menara argon kasar?

2016-12-12View Original

Thread Content

Para pengguna di sini, berkenaan dengan kandungan oksigen yang tinggi dalam gas argon yang keluar dari menara pertama (30-50%), saya ingin mengurangkan kandungan oksigen tersebut. Saya berpendapat bahawa cara untuk melakukannya adalah dengan mengawal nisbah aliran balik dalam menara pertama. Saya akan membuka valvul cecair udara pada penyejuk menara kedua, agar jumlah cecair yang beredar antara menara pertama dan kedua bertambah. Dengan cara ini, paras cecair dalam menara argon kedua akan kekal stabil. Dengan kata lain, jumlah cecair yang disejukkan adalah sama dengan jumlah cecair yang dihantar oleh pam argon ke menara pertama. Jumlah cecair yang disejukkan juga akan sama dengan jumlah cecair yang beredar (jumlah cecair yang masuk ke menara argon yang lebih halus tetap tidak berubah). Jadi, adakah peningkatan jumlah cecair yang beredar sama dengan peningkatan jumlah cecair yang mengalir ke menara pertama (dengan mengawal pam argon agar paras cecair dalam menara kedua kekal stabil)? Dengan cara ini, nisbah aliran balik bagi satu menara akan meningkat, dan dengan itu kandungan oksigen dalam menara tersebut dapat dikurangkan. Adakah logik saya ini bermasalah? Mohon rakan-rakan di sini untuk memberi pandangan.
Reply #22016-12-12
Pertama, kawal nisbah antara jumlah argon yang diekstrak dengan jumlah udara yang digunakan dalam proses distilasi, iaitu sekitar 22 hingga 24%. Kedua, kawal nisbah antara jumlah argon yang diekstrak dengan jumlah argon yang digunakan dalam proses tersebut, iaitu sekitar 28 hingga 32 kali ganda. Sudah tentu, syaratnya ialah kandungan oksigen dalam produk tersebut memenuhi standard yang ditetapkan, dan pada masa yang sama, tidak berlaku keadaan “nitrogen block”~~

Submit a Project

**Looking for Chemical Technology, Equipment & Solutions?** No Registration Required Broader Platform Exposure | Global Chemical Service Provider Connections

Submit Request — Free Consultation

Disclaimer

This is an automated machine translation of the original thread. Some technical terms may have inaccuracies; the original text shall prevail. Click "View Original" at the top right to access the source page, which supports IP-based automatic real-time language translation. Please watch out for contact details and sales inducements to prevent fraud. All content and translations are for reference only, representing solely the poster's personal views. For enquiries, email service@hcbbs.com.