HCBBS Forum (日本語)
Submit Chemical Projects / Find Solutions
Amplify Your Requirements on a Broader Chemical Platform *Engineering · Technology · Equipment · Solutions*
Submit Request

【毎日一問】工程基礎知識(選択問題)20190217

2019-02-17View Original

Thread Content

この投稿は最後に、雲目によって2019年2月17日14時40分に編集されました。精留プロセスの基本条件としては、以下のものが挙げられます( )。A. タービンディスクが必要であること B. 気液両相の循環が必要であること C. 一定数のタービンディスクが必要であること D. 適切な循環回数が必要であること 答え:ABCD
Reply #22019-02-17
Aは塔板が必要 Bは気液相のリフラックスが必要 Cは一定数の塔板が必要 Dは適切なリフラックス回数が必要 すべてが必要である

Submit a Project

**Looking for Chemical Technology, Equipment & Solutions?** No Registration Required Broader Platform Exposure | Global Chemical Service Provider Connections

Submit Request — Free Consultation

Disclaimer

This is an automated machine translation of the original thread. Some technical terms may have inaccuracies; the original text shall prevail. Click "View Original" at the top right to access the source page, which supports IP-based automatic real-time language translation. Please watch out for contact details and sales inducements to prevent fraud. All content and translations are for reference only, representing solely the poster's personal views. For enquiries, email service@hcbbs.com.