HCBBS Forum (日本語)
Submit Chemical Projects / Find Solutions
Amplify Your Requirements on a Broader Chemical Platform *Engineering · Technology · Equipment · Solutions*
Submit Request

【コントロール版】毎日一問20180411

2018-04-11View Original

Thread Content

空白の埋め込み:積分飽和現象を引き起こす内因は、コントローラーに積分制御機能が含まれていることであり、外因はコントローラー()である。 答え:長期にわたりバイアスが存在する
Reply #22018-04-11
基本的な飽和が生じる3つの条件:コントローラーに積分作用があること、コントローラーの偏差が長期間続くこと、制御システムが開路であること
Reply #32018-04-11
基本的な飽和が生じる3つの条件:コントローラーに積分作用があること、コントローラーの偏差が長期間続くこと、制御システムが開路であること
Reply #42018-04-11
積分飽和現象を引き起こす内因は、コントローラーに積分制御機能が含まれていることであり、外因はコントローラーに(長期にわたる偏差が存在すること)である。
Reply #52018-04-11
基本的な飽和が生じる3つの条件:コントローラーに積分作用があること、コントローラーの偏差が長期間続くこと、制御システムが開路であること
Reply #62018-04-11
基本的な飽和が生じる3つの条件:コントローラーに積分作用があること、コントローラーの偏差が長期間続くこと、制御システムが開路であること
Reply #72018-04-11
積分飽和現象を引き起こす内因は、コントローラーに積分制御機能が含まれていることであり、外因はコントローラーに(長期にわたる偏差が存在すること)である。
Reply #82018-04-11
コントローラーの偏差が長期にわたって存在し、制御システムが開路状態

Submit a Project

**Looking for Chemical Technology, Equipment & Solutions?** No Registration Required Broader Platform Exposure | Global Chemical Service Provider Connections

Submit Request — Free Consultation

Disclaimer

This is an automated machine translation of the original thread. Some technical terms may have inaccuracies; the original text shall prevail. Click "View Original" at the top right to access the source page, which supports IP-based automatic real-time language translation. Please watch out for contact details and sales inducements to prevent fraud. All content and translations are for reference only, representing solely the poster's personal views. For enquiries, email service@hcbbs.com.