["甲醇净化版�每一题", "メタノール合成過程において、無活性気体はどのように制制御されますか？答：合成系は、排出分離器の背後の少量のの気体を排出し、無活性気体の合成系の蓄積を制御します。一般的な制制御原則：異なる過程設計には異なる要求があります。通常、触媒使用の初期、活性が高く、触媒塔の重さが低いとき、循環気体中の無活性気体の含有量を約22-25%％に制制します。その後、それを約15-8%％に制制します。", "合成系は、排出分分器の背後の少量の気体を排出し、無活性気体の合成系の蓄積を制御します。", "初期では、それを約 " "合成系は、排出分離器の背後の少量のの気体を排出し、無活性気体の合成系の蓄積を制制します。一般的な制制原則：異なる過程設計には異なる要求があります。通常、触媒使用用の初期、活性が高く、触媒塔の重さが低いとき、循環気体中のの無活性気体の含有量を約 " "初期では、それを約 " "合成系は、排出分分器の背後の少量のの気体を排出し、無活性気体の合成系の蓄積を制制します。一般的な制制原則:異なる過程設計には異なる要求があります、通常、触媒使用の初期、活性が高く、触媒塔のの重さが低いとき、循環気体中の無活性気体の含有量を約 " "初期では、それを約 " "合成系は、排出分分器の背後の少量のの気体を排出し、無活性気体の合成系の蓄積を制制します。一般的な " "粗アルコール分分器器の後は、無活性気体の含有量が最も高いところです、ここで排出し、ヒドロゲン回収装置を設けてヒドロゲンを回収し、尾気を燃料として他のユニットに供給します。無活性気体が多いと、動力の消耗が増加し、省エネルギーと節能に不利ですが、適度なの無活性気体は一定の効果があります、有効組成分の圧力を小さし、触媒塔の反応を過度に強化させないでください。 " "合成系は、排出分分器の背後の少量の気体を排出し、無活性気体の合成系の蓄積を制制します。一般的な制制原則:異なる過程設計には異なる要求があります通常、塗布剤使用用の初期、活性が高く、触媒塔の重さが低いとき、循環気体中で無活性気体の含有量を約 " "初期では、それを約 " "合成系は、排出分分器の背後の少量のの気体を排出し、無活性気体の合成系の蓄積を制制します。一般的な " "本帖最后由 wwguuo 于 于 26-4 17:27 编辑 � �答： "合成系は、排出分分器の背後の少量のの気体を排出し、無活性気体の合成系の蓄積を制制制制します。一般的なの制制御原則:異なる過程設計には異なる要求があります通常、塗布剤使用用の初期、活性が高く、触媒塔の重さが低いとき、循環気体中で無活性気体の含有量を約 " "初期では、それを約 " "合成系は、排出分分器の背後の少量のの気体を排出し、無活性気体の合成系の蓄積を制制します。一般的的な "
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甲醇合成过程中惰气如何控制？ 答：合成系统采用排放分离器后面的少量气体以控制惰气在合成系统的积累增加。 一般控制原则：不同的工艺设计有不同的要求，通常在催化剂使用的初期，活性较好，合成塔负荷低，可将循环气体中惰气含量控制在20-25%左右，后期控制在15-20%左右。
合成系统采用排放分离器后面的少量气体以控制惰气在合成系统的积累增加。
初期控制在20---25%, 后期控制在15---20%.
合成系统采用排放分离器后面的少量气体以控制惰气在合成系统的积累增加。 一般控制原则:不同的工艺设计有不同的要求,通常在催化剂使用的 初期,活性较好,合成塔负荷低,可将循环气体中惰气含量控制在 20-25%左右,后期控制在15-20%左右。
初期控制在20---25%, 后期控制在15---20%.
合成系统采用排放分离器后面的少量气体以控制惰气在合成系统的积累增加。 一般控制原则:不同的工艺设计有不同的要求,通常在催化剂使用的 初期,活性较好,合成塔负荷低,可将循环气体中惰气含量控制在 20-25%左右,后期控制在15-20%左右
合成系统采用排放分离器后面的少量气体以控制惰气在合成系统的积累增加。 一般控制原则:不同的工艺设计有不同的要求,通常在催化剂使用的 初期,活性较好,合成塔负荷低,可将循环气体中惰气含量控制在 20-25%左右,后期控制在15-20%左右
合成系统采用排放分离器后面的少量气体以控制惰气在合成系统的积累增加。 一般控制原则:不同的工艺设计有不同的要求,通常在催化剂使用的 初期,活性较好,合成塔负荷低,可将循环气体中惰气含量控制在 20-25%左右,后期控制在15-20%左右
在粗醇分离器后是惰性气体含量最高的地方，在此排出，设置氢回收装置回收氢气，尾气用作燃料，供给其他单元。 惰性气体多了增加动力消耗，对节能减排不利，但是适当的惰性气体还是有一定好处的，减小有效组分的分压，使合成塔反应不致太强烈。
合成系统采用排放分离器后面的少量气体以控制惰气在合成系统的积累增加。 一般控制原则:不同的工艺设计有不同的要求,通常在催化剂使用的 初期,活性较好,合成塔负荷低,可将循环气体中惰气含量控制在 20-25%左右,后期控制在15-20%左右
本帖最后由 wwguo 于 2020-6-4 19:27 编辑 答：合成系统采用排放分离器后面的少量气体以控制惰气在合成系统的积累增加。 一般控制原则：不同的工艺设计有不同的要求，通常在催化剂使用的初期，活性较好，合成塔负荷低，可将循环气体中惰气含量控制在20-25%左右，后期控制在15-20%左右。
合成系统采用排放分离器后面的少量气体以控制惰气在合成系统的积累增加。 一般控制原则：不同的工艺设计有不同的要求，通常在催化剂使用的初期，活性较好，合成塔负荷低，可将循环气体中惰气含量控制在20-25%左右，后期控制在15-20%左右。