立式分子篩の冷却時のピーク値異常
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私の装置では垂直型分子ふるいを使用しており、最近装置の処理ガス量に変化はなく、再生ガスの各パラメータも変動していません。Aタンクの分子ふるいで「二重ピーク」現象が見られる一方、Bタンクのピークは正常ですが、垂直型分子ふるいでは層が平らでない状態が生じることがありますか？師匠方に解決策や意見交換をお願いします。
具体的な画像はありますか？今出現したのですか？一度だけ出現するの？分子ふるいと酸化アルミニウムの直接のグリッドはどちらも正常ですか？
ここ3日間のピーク値のスクリーンショットを送っていただけますか？できれば2種類の分子ふるいのものを一緒に、比較できるように
水平層の類似した状況を利用して、垂直型放射流構造の吸着器に起こり得る状況を逆算し、それに基づいて項目ごとに判断することはできないだろうか。
再生プログラムの乱れが起きるとプレス事故が発生します。私たちも運転中にプログラムが乱れ、吸気総弁が直接開いて圧力が瞬間的に上昇し、プレス事故が起きました。複数のピークが現れることは、分子ふるい層に凹みがあることを示しており、ピークの数からその凹みの数（N-1）を判断することができます。このようなプレス現象が起きた後、ピーク値は変化しましたか？
現在は画像がありませんが、最近になって発生しており、一度きりではなく、ピーク値が異常な状態が続いています。ただし、この現象は修正可能です。分子ふるいの上部にある再生ガス用のものと筒体との間にDN50のバイパスバルブがあり、そのバルブを開けるとピーク値が改善されます。グリッドについては検査していません。
プログラムの乱れは発生しておらず、1つのバケツは正常でもう1つは異常で、異常なAバケツはヒーターから少し離れている。
総合的に答えると、画像は2日後にアップロードします。個人的には、これは層の不均一さが原因だとは思えません。なぜなら、分子ふるいの上部には、再生用ガスラインからタンク本体へと続くDN50のバイパスバルブが設置されており、以前はこのバルブは再生時には閉じた状態でした。しかし最近「二重ピーク」現象が発生してから、このバルブを開くと曲線は数サイクル経過した後に元に戻ります。ですから、これは層の不均一さが原因だとは考えておらず、むしろ何らかの部分で粉塵などの要因により抵抗が大きくなり、再生用ガスの流量が少なくなったため、他の部分に比べてピークが遅れて現れるのだと思います。（バイパスバルブを使えば、再生用ガスを直接層内に送ることができます。）
一般的に、再び発生するガス量は少なく、複数のピークが現れることはないでしょう。開放すれば状況が良くなる場合でも、ガス量が少ないため、さらに一部が詰まってガスが層内に均一に供給されないと、複数のピークが生じることもあります。
ベッド層が平らでないのが原因でしょう。分子ふるいの出入り時の気圧差が大きくならないように注意してください。