uop。再生3.5

投稿者さん、何について話し合いたいのですか？はっきりと書いてください。ありがとう。

第3マニュアルにおけるuop3.5の再生サイクルステップに関する内容

ループステップとは何ですか？理解できなかった

触媒クラッキング装置のリジェネレーターですか？

何の装置についても言及せず、そのままUOP再生3.5と出てきて、何を言いたいのか分からない

待生Lバルブユニット 分離ホッパー 再生器 ナイトロジンシールタンク ロックホッパー 再生Lバルブユニット 还元セクション

触媒の再生には、UOPの第3世代「CycleMax」触媒再生プロセスが採用され、触媒を連続的に循環させつつ再生を行います。第4のリフォーム反応器から出た未使用触媒は再生部に送られ、順に触媒の焼成、酸化塩素処理（塩素補給および金属の再分散）、乾燥、冷却が行われる。再生された触媒は、ロック式ホッパーを経由して還元領域に循環され、二段階の還元（酸化状態から還元状態へ）が行われる。その後、降下管を通って第1の改質反応器に入り、順に第2、第3の反応器を経由して最終的に第4の反応器に到達し、1サイクルが完了する。触媒の循環と再生は、触媒再生制御システムCRCSによって制御される。 a) 再生器の内部は二重のジョンソンスクリーン構造となっており、内側のスクリーンは逆台形の円錐形をしている。その主な目的は、まず、未再生触媒が再生器の最上部にある高温・多湿・低酸素の燃焼領域に留まる時間を短縮し、それによって触媒の比表面積の損失を減らすことである；二つ目は、リジェネレーターの下部における触媒の滞留時間を長くし、触媒が酸化塩素化領域に入る前に完全に焼き尽くされるようにすることです。 b) 还元ゾーンはリフォーミング第1反応器の上部に位置し、再生システムの高さを低減する。還元ゾーンは2段階の還元で、上部の層で低温還元を行い、水分の大部分を除去する；下部の床層が比較的乾燥した状態で高温還元を行い、高温・多湿な環境による触媒の活性低下を防ぐ。 c) 改質水素をそのまま触媒還元水素として使用することも、水素製造用の水素ガスを触媒還元水素として使用することもできる。 d) 触媒輸送システムは「L」バルブアセンブリにより昇圧する。昇温管には直角の曲がり部のない特殊な曲管を使用し、**触媒の摩耗を低減します。 e) 未反応触媒の昇降ガスおよび洗浄ガスはいずれも窒素を使用し、それぞれ昇降用ファンおよび除塵ファンを設置して窒素を循環させることで、システムの安全性を確保し、粉塵回収システムへの要求を低減する。 f) 系統内で消耗した触媒を迅速に補充し、かつ装置を停止させることなくオンラインで触媒の装填・取り外しが可能な、2系統の触媒供給システムが設計されている。 g) 環境保護のため、再生排ガスはアルカリ洗浄を行った後に大気中に排出される。 h) 再生システムは、ロック式ホッパーによって触媒の再生循環量を制御する。 i) 事故時に反応器内の構成部品の損傷を防ぐため、反応器内の触媒用冷却循環ラインを備える。

あなたたちの再構成装置は、私たちのものとほぼ同じです

各装置には軽質炭化水素異性化ユニットがありますか？