再編装置還元段の材料レベル変動
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UOP技術により、還元セクションの材料レベル表示が1分間で60％から30％まで低下した。以前は未反応触媒隔離弁付近で触媒の供給が滞る問題が発生していたが、現在は材料レベルの変動の原因は、未反応触媒隔離弁の下部からLバルブ群までの配管内の圧力が低下し、触媒が一度にその配管部分に流れ込んだことによるものではないかと考えられている。しかしよく考えてみると、還元セクションへの影響はこれほど急速に現れるはずがないのではないか？還元工程が原因で、触媒の流動がうまくいかないのでしょうか？
起きた問題をはっきりと説明してください！周期的なのか、たまに起こるのか？
周期的というわけではなく、時には1日に1、2回、時には1日に3、4回です
もう少し詳しく説明してもらえますか？》
このような状況は、いくつかの装置で見られ、内部に空洞ができるか、「壁面付着」するというものです。原因は、触媒の微粉末の選別が不十分であること、反応器のふるい網が詰まっていること、および局所的な線速度が高くなることです。質問ですが、芳潜含有量は設計値より高いですか？ 条件が許せば、一つには循環水素の流量を下げて、第一反応器の圧力損失を低減してみることです。さらに、第一反応器の入口温度を下げて、水素を第二反応器で再生成させる。 以前にも同様の状況について書かれた投稿があり、後で点検をしたら直ったとのことでした。今年の紹興で開催されたUOP年次会議でも、地元の精製所から同様の問題が提起されました。確かに、原料のレベルが急激に下がった状態が再現されており、レベルも温度もそうです。または、処理量を減らしてみてください。もし毎日発生するのであれば、1日試してみれば結果が出ます。 引き続きの報道を楽しみにしています。
最近、第一段および第二段の還元ガス流量をそれぞれ100立方メートルずつ減らし、還元ガスの温度も10度上げましたが、原料レベルは依然として下がっています。ただし低下幅は小さくなり、以前は60から30だったのに対し、現在は60から40になっています……循環水素量は多くなく、水素対油比は2.4～2.5程度です
最近、ナフサの芳香族分が低く、28で、設計値は36～40の間であるべきです
連絡先を残して友達になれませんか？
確認しましたが、少し前は確かに粉塵の量が多く、粉末状でした。除塵用の風量を調整した後、粉塵の量は正常に戻りました。最近はずっと正常です……
まず細かい粉が多くなり、その後還元段階で材料のレベルに変動が生じるという事例が、以前にもありました。点検の際、1つの反応中心管に詰まりがあることが判明したが、微粉が多い原因はリジェネレータ内の配管に損傷があったためである。点検後に再稼働し、奇偶が正常になった。 皆さんはふるい分けによって微細な粉を減らし、詰まった場所を一つずつ順番に通していったのです。