三塩化水素シリコンと二塩化二水素シリコンの異なる温度と圧力における変化グラフなんて、誰が知っているだろう！
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qq1175432111@qq.comに送っていただきありがとうございます。化学の初心者で、*に関する資料を学びたいのですが、多結晶シリコンの還元に関する資料を持っている方がいれば、ぜひ送っていただけませんか
題目を三回読んだけど、何の意味かわからない。
簡単に言うと、異なる温度でのTCSとDCSの飽和蒸気圧ですか？
違う。真空下におけるシリコンコアの1000度から1200度でのTCSおよびDCSの吸着グラフ
化学工業の新人とは、還元炉の生産工程において、二塩化二水素ケイ素の含有量が増加するため、温度が変わらない状態でも炉内に常にケイ素粉が発生することを指します。温度の調節と予防方法は？
なぜ二塩化二水素ケイ素の含有量が高いとケイ素粉が発生しやすいのか、その原理は何ですか。
私は化学工業の新人です。よくわからない！
SiH2Cl2の気相分解温度はSiHCl3よりも低く、現在はすべて複数本のロッドを持つ炉が使われており、炉の中心部の熱分布に大きな変化はないため、SiH2Cl2は気相中で容易に分解されます。シリコン粉がシリコンロッドの表面から遠く離れていると、ロッドに吸着されずに気相中に拡散してしまいます。理解できましたか？:ハンドシェイク
やっと私にもわかるものができました。本当にありがとうございます