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차세대 정전기 먼지 측정기 소개

2020-08-03View Original

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입자 물질의 정전기 유도 방식을 이용한 먼지 측정 기술은 1970년대 후반에 처음으로 입자 물질 배출 모니터링 분야에 도입되었습니다.처음에는 단순한 아날로그 회로를 기반으로 한 독립형 먼지 감지기였지만, 점차 DSP 칩과 디지털 신호 처리 알고리즘이 적용된 입자 물질의 유량/농도 측정 장비로 발전해 나갔습니다. 이 기술은 입자 물질의 정전기적 인덕션 원리와 기체-고체 2상 유체역학에 대한 이해가 깊어짐에 따라 더욱 완성되어, 점점 더 많은 산업 분야에서 활용되고 있습니다. 1995년에는 중요한 사건이 있었습니다. 바로 미국 환경보호청(USEPA)이 2차 납 용해 산업에 대한 MACT(가장 효과적인 관리 기술) 기준을 제정한 것입니다. 이 기준에서는 처음으로 집진기를 가동할 때 입자상 물질의 정전기 유도 방식을 이용한 먼지 감지 시스템의 사용이 의무화되었습니다.이는 USEPA가 입자상 물질의 정전기 유도 기술을 처음으로 공식적으로 인정하고 권장한 것을 의미합니다. 그 이후로 이 기술은 USEPA의 다른 먼지 제거 관련 배출 기준들에도 점차 도입되었습니다. 기술 리뷰: 1970년대 후반부터 21세기 초까지, 정전기 유도 방식을 이용한 입자 물질 측정 장비의 핵심 기술은 다극 모의 증폭 원리에 기반을 두고 있었습니다. 후기에는 마이크로프로세서가 추가되어 일부 장비들이 디지털 디스플레이, 디지털 통신 및 기타 지능형 기능을 갖추게 되었지만, 신호 처리 과정 자체는 여전히 아날로그 회로 기술에 의존하고 있었습니다. 9페이지 중 4페이지입니다. 이상적인 입자 물질의 정전기 유도 처리 회로는 우수한 직류 및 교류 성능을 모두 갖추어야 합니다. 직류 성능 측면에서는, 검출 범위 전체에 걸쳐 편차와 드리프트가 최소화되어야 하며, 가능한 한 선형적인 증폭 특성을 가져야 합니다;통신 성능 측면에서는 측정할 주파수 범위를 커버할 수 있는 충분한 대역폭과 높은 신호대잡음비가 필요합니다.그러나 실제로 입자 물질의 정전기 유도를 측정하는 장비를 설계하고 제작하려면 여러 가지 기술적 난제를 해결해야 합니다. 입자 물질의 정전기 유도 신호는 매우 약하여, 보통 10-12에서 10-9 암페어 범위에 해당합니다.이렇게 작은 전류 신호를 감지하려면, 측정 가능한 신호를 얻기 위해 매우 높은 증폭비(약 10^9의 게인)가 필요합니다.모든 아날로그 전자 부품에는 오프셋, 드리프트, 열잡음이 존재합니다. 이러한 간섭 요소들은 신호 자체와 함께 증폭됩니다. 적절한 보상이나 격리 조치가 없다면, 이러한 간섭이 너무 심해져서 진짜 신호를 가려버릴 수 있으며, 그로 인해 회로가 포화 상태에 빠질 수 있습니다;동시에 전통적인 전자 부품을 사용하는 회로에서는 과도한 이득이 회로의 대역폭을 제한하여, 직류 신호와 10여 헤르츠 정도의 저주파 교류 신호만을 감지할 수 있게 됩니다.그래서 아날로그 회로 기술 단계에서 안정적인 입자 정전기 유도 장치를 제작하는 것은 상당한 도전이었습니다.다음에서는 아날로그 신호 처리 기술을 활용하는 전형적인 입자 물질 정전기 유도 장비를 예로 들어, 이러한 장비의 한계점들을 분석해 보겠습니다. 위의 분석을 통해 알 수 있듯이, 다단계 아날로그 증폭 기술을 핵심으로 하는 전통적인 입자물질 정전기 감지 장비는 다음과 같은 특징을 가집니다:
 선택된 주파수 대역 내의 신호를 차별 없이 증폭시키며, 이 신호가 장비의 최종 출력값으로 사용됩니다. 따라서:
 o 장비는 다양한 전자기 간섭을 구분할 수 없습니다.
 o 프로브의 오작동, 예를 들어 오염 상태 등도 판단할 수 없습니다.
 제한된 신호 주파수 대역:
 o 교류 결합 방식의 장비의 경우, 일반적으로 처리되는 신호 범위는 1Hz~10Hz와 같은 저주파 영역입니다. 장비는 유용한 직류 신호는 차단하고, 신호 주파수 범위 내에서 가장 약하고 외부 요인에 쉽게 영향을 받는 영역만을 모니터링합니다.
 o 직류 결합 방식의 장비의 경우, 일반적으로 처리되는 주파수 대역은 직류~4Hz입니다. 장비는 직류 신호는 모니터링할 수 있지만, 더 높은 주파수의 유용한 정보는 처리할 수 없습니다.
 효과적인 전기적 격리가 불가능하여, 프로브와 전면 회로, 그리고 인접한 파이프라인들 사이에 독립적인 전위 비교 체계가 형성되지 않습니다. 따라서:
 o 장비는 주변의 대형 전력 장비로 인한 접지 회로의 간섭을 쉽게 받습니다.
 o 신호선이나 전원선으로 인한 간섭도 쉽게 받습니다.
 이것이 바로 이러한 종류의 장비가 다양한 작동 조건 및 현장 환경에서 안정적인 성능을 보여주지 못하는 주된 원인 중 하나입니다.
 신호의 특성에 대한 구체적인 분석이 불가능하여, 유체의 흐름 상태를 판단할 수 없습니다. 그 결과, 신호를 적절히 보정할 수 없으며, 그로 인해 출력값도 유체의 흐름 상태에 영향을 받아 정확한 측정 결과를 얻을 수 없습니다.
다단계 아날로그 증폭 원리를 기반으로 하는 입자물질 정전기 감지 장비의 특징과 한계를 고려할 때, 이러한 장비는 대부분의 작동 조건에서 민감한 먼지 누출 감지 장비로서는 적합하지만, 정확한 정량 측정을 위해서는 부족합니다. 기술의 발전에 따라, 마이크로프로세서와 디지털 신호 처리 기술이 발전함에 따라, 입자물질의 정전기 유도 기술도 디지털 시대로 접어들었습니다.제2차 세계대전 중에 발명된 레이더와 마찬가지로, 처음에는 단순한 에코 증폭 기능에서 시작하여 현대의 위상 배열 기술에 이르기까지, 디지털 신호 처리 덕분에 레이더가 얻는 정보의 양과 간섭 저항력, 정확도 및 안정성이 획기적으로 향상되었습니다.이 세기 초에는 고정밀·고속의 아날로그-디지털 변환기가 보급되면서, 먼지가 섞인 기체의 유동을 모델링하는 유체역학적 모델들이 활용되었습니다. 또한 통계적 모델과 신호 처리 알고리즘이 개발되었으며, 알고리즘의 최적화와 저비용의 컴퓨팅 하드웨어(DSP, FPGA)의 발전 덕분에 “바오리” 계산이 가능해졌습니다. 이는 최적화된 알고리즘을 사용하여 과다하게 샘플링된 데이터를 반복적으로 처리함으로써 종합적인 결과를 도출하는 방법입니다. 그 결과, 디지털 신호 처리를 핵심 기술로 하는 차세대 입자물질 정전기 감지 장비들도 현장에서의 활용이 증가함에 따라 점차 성숙해졌습니다. 디지털 신호 처리를 기반으로 하는 입자물질의 정전기 유도 측정 장비의 특징은 다음과 같습니다:
 완전히 독립된 전면 측정 회로가 있어, 전기적으로 격리되어 있으므로 프로브, 전면 측정 회로, 그리고 주변 파이프라인들이 각각 독립된 기준 체계를 형성합니다. 이를 통해 전원, 신호선, 접지 회로로부터 오는 간섭을 제거할 수 있습니다.
 전면 측정 회로에는 지속적인 드리프트 추적 및 오차 보정 기술이 있어, 적절한 온도 범위(산업용: -40°C~85°C) 내에서 앰프의 드리프트로 인한 영향을 근본적으로 제거할 수 있습니다.
 아날로그 회로는 신호를 어떠한 방식으로도 처리하지 않고, 단지 원시 신호를 버퍼링하거나 적당히 증폭시킬 뿐입니다. 이를 통해 원시 신호의 대역폭을 유지함으로써, 백엔드 알고리즘이 더 많은 유체 정보를 활용할 수 있습니다.
 신호 체인 내에서는 가능한 한 빨리 신호를 아날로그-디지털 변환하여, 통계적 및 디지털 알고리즘을 사용해 신호를 처리합니다.
 직류 신호와 교류 신호를 각각 처리하며, 작동 조건에 따라 계산 기준을 설정합니다. 일반적으로 직류 또는 교류 신호의 세기를 기준으로 사용합니다.
 교류 신호의 특정 주파수나 상류/하류 프로브 신호의 상관관계를 분석함으로써 유속을 추정합니다. 이를 통해 유속 변화가 기준 신호에 미치는 영향을 보상하여, 출력 신호가 오직 입자물질 농도에만 의존하도록 합니다.
 여러 신호들의 상관관계를 분석함으로써, 특정 주파수에서 발생하는 전자기 간섭, 특히 공간적 전자기 간섭을 제거할 수 있습니다.
 “보리” 계산법을 활용하여 과도하게 샘플링된 데이터를 분석함으로써, 난류 등으로 인한 무작위 소음의 영향을 제거할 수 있습니다.
 직류 신호와 교류 신호의 특성을 비교함으로써, 프로브의 오염 등과 같은 문제를 파악할 수 있습니다.
샘플링 주파수가 “공간 필터링 효과”의 범위를 넘으면, 입자물질의 흐름에 관한 완전한 정보를 얻을 수 있습니다.하나의 샘플에 포함된 수천 개의 데이터 포인트를 처리함으로써, 디지털 신호 프로세서는 신호에 대한 다양한 통계적 분석 및 스펙트럼 분석을 수행할 수 있습니다. 또한 상관 관계 알고리즘도 정확한 입자 유속 측정에 활용될 수 있습니다.다양한 모델과 알고리즘이 실험실 및 현장에서 검증되었으며, 필요할 경우 오프라인 데이터 분석 소프트웨어를 활용하여 특정 작동 조건에서 최적의 성능을 얻도록 조정됩니다. 따라서 디지털 신호 처리 기술을 기반으로 하는 입자 물질의 정전기 유도 장비는 더 우수한 안정성과 재현성을 가지며, 이것이 바로 정량 측정의 정밀도를 보장하는 기반이 됩니다.전통적인 장비와 비교할 때, 디지털 신호 처리 기술을 기반으로 한 장비에는 다음과 같은 장점들이 있습니다. 요약하자면, 입자의 정전기 유도 현상에 관한 이론의 발전은 전자 기술의 진보 덕분입니다. 충분한 대역폭을 갖춘 고정밀 샘플링 회로가 없다면, 많은 모델과 알고리즘들도 검증될 수 없습니다;또한, 이론적 분석을 통해 얻어진 신호의 특성들은 최종 장치의 샘플링 회로 설계를 최적화하는 데에도 활용된다.장비의 실시간 임베디드 시스템 내 알고리즘도 합리적인 비용의 컴퓨팅 하드웨어를 통해 구현될 수 있다.입자 물질의 정전기 유도 분야는 사실상 혁신을 겪었지만, 업계의 대부분 기업들은 수년간 이어져 온 아날로그 증폭이라는 핵심 기술에서 벗어나지 못하고 제한적인 수정만을 가했을 뿐입니다(앞서 인용된 2013년에 승인된 미국 특허 8375766B2 참조).아날로그 증폭 기술을 사용하는 회사들이 여전히 시장의 대부분을 차지하고 있기 때문에, 일반 사용자들도 입자물질의 정전기 유도 기술에 대한 이해가 지난 세기 수준에 머물러 있습니다. 성능 요구사항만 충족된다면, 미국과 유럽연합의 환경 규제 기관들은 분진 배출 측정 장비의 기술적 원리에 대해 엄격한 규정을 두고 있지 않습니다.입자 물질의 정전기 유도 원리를 이용한 먼지 측정 장비는 광학 원리를 이용한 장비에 비해 각각 고유한 특성과 적합한 사용 환경이 있습니다. 하지만 입자 물질의 정전기 유도 방식을 이용한 먼지 농도/유량 측정기는 더 민감하고, 더 신뢰할 수 있으며, 더 경제적이며, 거의 유지보수가 필요 없다는 장점이 있습니다.입자 농도/유량 외에도, 광학 원리를 이용한 먼지 측정기와 정전기 유도 원리를 이용한 먼지 측정기 모두 다른 요인들의 영향을 받습니다. 따라서 정량적인 측정을 하기 전에는, 이 두 종류의 장비 모두 안정적인 흐름 상태에서 알려진 특성을 가진 입자들을 사용하여 보정해야 합니다. 각 측정 지점마다 실제 입자의 성질과 흐름 상태가 다르기 때문에, 두 종류의 장비 모두 현장에서 보정이 필요합니다. 광학 장비와 달리, 입자 물질의 정전기 유도 측정 장비는 빛을 측정하기 위해 깨끗하고 정밀하게 보정된 렌즈를 사용할 필요가 없습니다. 대신, 간단하고 튼튼하며 거의 유지보수가 필요 없는 프로브를 사용하여 입자 물질의 움직임을 측정합니다;다양한 형태의 프로브를 장착할 수 있어, 적절하게 접지되고 차폐된 다양한 파이프 및 집진기에 설치하는 데 적합합니다.입자용 정전기 감지 장비는 기본적으로 프로브에 먼지가 쌓여 영향을 미칠 걱정이 없으며, 고온의 연도 내에서 마모성이 있거나 습한(응축되지 않은) 입자를 검출할 수 있다.결로가 발생하고 샘플링 시스템을 설치해야 하는 경우에도, 입자 물질용 정전기 감지 센서의 견고한 구조 덕분에 샘플링 시스템을 **간소화할 수 있으며, 오직 샘플 추출 및 가열과 같은 구성 요소만 포함되면 됩니다.** 입자상 물질 정전기 감지 장비는 0.01 mg/m3에 이르는 매우 낮은 농도의 먼지도 검출할 수 있으며, 먼지의 유량/농도 변화에 대해 1초 이내에 반응할 수 있습니다. 이러한 수치들은 **어떤 배출 기준에서 정한 상한값보다도 낮습니다.**높은 감도와 빠른 반응 속도 덕분에, 입자상 물질의 정전기 감지 장비는 먼지 제거기의 유지보수, 성능 검사, 그리고 누출의 조기 경보 및 위치 파악에 자주 사용됩니다. 차세대 입자 물질 정전기 유도 감지 장비는 입자의 농도, 유량, 유속을 보다 정확하게 측정할 수 있으며, 다양한 간섭 요인의 영향을 덜 받습니다. 이 장비는 기존의 배출물 모니터링에 사용될 뿐만 아니라, 공압식 전달 라인에서의 유동 측정, 먼지가 섞인 가스의 유속 측정, 개방된 공간의 먼지 모니터링과 같은 더 중요한 생산 제어 분야에도 활용됩니다.그리고 산업계의 이 기술에 대한 수용도도 제품의 실제 활용에 따라 증가할 것입니다.
Reply #22020-08-03
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