고온 고압, 염화이온 및 구리이온에 의한 부식 조건에서의 재료 선정 문제

2016-06-21View Original

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저는 화학공학 장비에 관심이 있는 초등학생입니다. 여러분께 조언을 구하고 싶습니다. 저는 현재 반응기를 설계하고 있습니다. 작동 온도는 240℃이며, 반응기 내의 물에는 NaCl이 1% 함유되어 있고, Cu 이온의 농도는 250ppm 이상입니다. pH 값은 3~4 사이입니다. 반응하는 동안에는 순수한 산소가 공급되며, 압력은 4MPa 이상입니다.. 처음에는 이러한 조건에서 Cu 이온이 심하게 부식된다고 들어서 적절한 하스텔로이를 찾기 시작했습니다. 그런데 방식 처리를 담당하는 전문가는 이러한 조건에서 Cu는 환원 반응이 아니라 산화 반응을 일으키며, 사실상 둔화막을 보호하는 역할을 한다고 말했습니다. 이 말이 맞는지는 잘 모르겠습니다. 만약 Cu 입자의 부식은 고려하지 않는다면, Cl 이온에 의한 부식이 있는 상황에서 2507 재질을 계속 사용할 수 있을까요? 그리고 그 부식 속도는 빠른 편일까요? 점부식이나 결정간 부식, 혹은 응력부식과 같은 비균일 부식이 발생할 가능성은 있을까요?2507 이중상 강을 고려하지 않는다면, TA2 복합판을 사용할 수 있을까요?혹은 다른 적절한 대체 재료가 있는지.. 답장 기다리겠습니다. 진심으로 감사드립니다.

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