황산아연 용액을 이용한 아연 분말을 통한 카드뮴·니켈 제거에 관한 세부적인 문의입니다
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공장의 농축 황산아연 용액(염분 및 불순물이 많으며 플루오린과 염소가 다량 함유됨)을 정제하여 염기성 탄산아연으로 만드는 과정에서 다음과 같은 문제가 발생했습니다: 1. 망가니즈 제거를 위해 사용되는 과망가니즈산칼륨의 실제 사용량이 이론적인 양의 2배에 달함.이유를 모르겠어요.망가니즈 제거 탱크 이전의 탱크에는 과산화수소를 넣어 철을 제거했습니다. 2 아연 분말 치환: 카드뮴 2그램/리터 + 소량의 구리 + 니켈 0.2그램/리터. 사용량은 이론값의 2.5~3배입니다.공장의 구체적인 방법은 먼저 일부 아연분을 넣어 카드뮴 슬래그를 만든 다음, 다음 탱크에서 산도를 약간 조절하고 용액이 기준에 맞을 때까지 아연분을 추가하는 것입니다.혼합 시간은 약 35-40분이며, 온도는 75도, 혼합 속도는 62회전/분입니다. 조언을 구합니다. 정상적인 고카드뮴 슬래그의 카드뮴과 아연 함량은 얼마인가요?회수 산도는 몇 pH까지 조절해야 하며, 탱크 바닥에 있는 카드뮴-아연 슬래그는 산에 의해 다시 용해될까요?
제1조, 잘 이해가 안 돼요；제2조, 카드뮴 슬래그와 코발트-니켈 슬래그는 분리해야 한다.
제1조, 철 제거 과정에서 과산화수소의 양이 부족하면 이후 망가니즈 제거 효율이 낮아집니다. 제2조, 카드뮴 제거에는 온도가 65도 미만이어야 하며, 니켈 제거에는 온도가 80도 이상이어야 합니다. 또한 치환 방식으로 카드뮴을 제거할 경우 다시 용해될 수 있으며, 니켈 제거 효율도 낮습니다.니켈 제거제를 사용하는 것을 권장합니다
위층이 정답!과량의 과산화수소는 과망가니즈산칼륨을 소모시킵니다.
먼저: 저온 45℃에서는 아연 분말을 첨가하여 치환시키며, 시간은 30분입니다. 그 후 3~6배로 희석한 뒤, 기준에 부합하면 즉시 여과합니다.
Ni 제외: 고온 80~85도에서 먼저 활성화제로서 Sb2O3와 CuSO4를 첨가한 다음, Ni의 양의 30~40배에 해당하는 아연 분말을 추가하며, 치환 시간은 2시간입니다.두 번째 방법은 니켈 제거제를 사용하는 것입니다: 중온인 65~70℃에서 먼저 활성화제를 넣고, 그 다음에 니켈 제거제를 추가합니다. 치환 시간은 50분입니다.
고망가니즈산칼륨, 과산화수소, 오존은 모두 강력한 산화제로서, 용액 속의 철-망가니즈 이온을 산화시키는 데 충분합니다. 카드뮴의 함량이 1mg/l 이하로 조절된다면, 일반적으로 카드뮴 슬래그에는 카드뮴이 7-12%, 아연은 45-50% 포함됩니다