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폴리실리콘 장비의 화학적 세척

2016-07-23View Original

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.Cleaning 목적 폴리실리콘 공장은 고순도 요건, 복잡한 공정 및 다양한 유형의 장비(일부는 금속 시스템 및 반도체 전자 부품의 특성을 가짐)를 갖춘 화학 시스템입니다.공정 시스템 디버깅 중 정화 시간을 줄이고 디버깅 비용을 최소화(시스템 정화 단계의 불량률이 높고 제품 출력 값이 낮음)하여 장치가 가능한 한 빨리 고순도 폴리실리콘 제품을 생산할 수 있도록 설치 전에 공정 장비와 공정 파이프라인을 청소해야 합니다.다양한 프로세스 요구 사항, 다양한 장비 재료, 다양한 장비 유형, 청소 처리 요구 사항 및 기본 표준을 충족하려면 다양한 청소 방법이 필요합니다(오일 프리, 물 프리, 먼지 프리 및 불순물 없음의 네 가지 요구 사항 및 순환수의 사전 필름 요구 사항 충족). 청소공사 과정은 크게 네 가지로 나눌 수 있습니다.:스프레이 청소, 사이클 청소, 침지 청소(탱크 침지 및 홍수 침지) 및 물티슈 청소.

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