HCBBS Forum (Русский)
Submit Chemical Projects / Find Solutions
Amplify Your Requirements on a Broader Chemical Platform *Engineering · Technology · Equipment · Solutions*
Submit Request

Механизм реакции окисления путем УФ-фотолиза

2017-12-06View Original

Thread Content

Последнее изменение в этом посте было сделано пользователем goldliyang 9 декабря 2017 года в 15:16. Краткое описание принципа технологии ультрафиолетового разложения: под действием высокоэнергетических ультрафиолетовых лучей с длиной волны от 170 нм до 184,9 нм (энергия фотонов от 704 кДж/моль до 647 кДж/моль) кислород в воздухе разлагается, после чего образуется озон; С другой стороны, разрываются химические связи в неприятно пахнущих газах, в результате чего образуются атомы или группы в свободном состоянии ; Озон, образующийся одновременно, участвует в процессе реакции, что позволяет разлагать и окислять неприятно пахнущие газы до простых стабильных соединений, таких как CO2, H2O, SO2, N2 и т. д. Примечание: 1. Возможность разложения веществ с неприятным запахом с помощью устройств для удаления запахов с использованием света зависит от того, меньше ли энергия химических связей в этих веществах, чем энергия фотонов УФ-света. 2. Время протекания реакции разложения чрезвычайно короткое (<0,01 с), тогда как для окислительной реакции требуется 2–3 с. 3. Недостаточная общая мощность UV-фотонов или низкий уровень содержания кислорода приводят к неполному разложению или окислению, в результате чего образуются промежуточные побочные продукты, что снижает эффективность очистки. Это особенно заметно для органических веществ с резким запахом, представляющих собой молекулы высокой концентрации. 4. Долгосрочная стабильность и высокая эффективность процесса очистки с использованием УФ-фотолиза требуют, чтобы температура реакции была ниже 70°C, количество пыли — ниже 100 мг/м³, а относительная влажность — ниже 99%. 5. При соблюдении условий максимальная эффективность очистки с использованием УФ-фотолиза может достигать 99,9%. Если длина волны ультрафиолетового излучения составляет 160 нм (742 кДж/моль), то процесс реакции становится более простым: формальдегид разлагается на свободные атомы C* и H*, а также может быть окислен O3 до CO2 и H2O. Как видно из вышесказанного, ультрафиолетовое излучение разных длин волн может оказывать разный эффект на процесс фотодиссоциации одного и того же вещества. Чем короче длина волны ультрафиолетового излучения, тем выше энергия фотонов, и тем легче происходит фотодиссоциация вещества. Напротив, чем длиннее длина волны, тем сложнее этот процесс, а иногда он вообще не происходит.

Submit a Project

**Looking for Chemical Technology, Equipment & Solutions?** No Registration Required Broader Platform Exposure | Global Chemical Service Provider Connections

Submit Request — Free Consultation

Disclaimer

This is an automated machine translation of the original thread. Some technical terms may have inaccuracies; the original text shall prevail. Click "View Original" at the top right to access the source page, which supports IP-based automatic real-time language translation. Please watch out for contact details and sales inducements to prevent fraud. All content and translations are for reference only, representing solely the poster's personal views. For enquiries, email service@hcbbs.com.