Химическая чистка оборудования для поликристаллического кремния

Thread Content

Цель очистки: завод по производству поликристаллического кремния представляет собой химическую установку с высокими требованиями к чистоте, сложной технологией и большим количеством различных устройств (некоторые из них имеют характеристики, свойственные металлургическим установкам и полупроводниковым электронным компонентам). Для сокращения времени, необходимого для очистки технологической системы во время наладки, и минимизации затрат на этот процесс (из-за высокого уровня брака на этапе очистки системы и низкой стоимости готовой продукции), а также для обеспечения возможности как можно скорее производства поликристаллического кремния высокой чистоты, необходимо тщательно очистить технологическое оборудование и трубопроводы перед их установкой. В зависимости от различных технологических требований, материала оборудования, его типа, а также требований к процедуре очистки и базовых стандартов, которые необходимо соблюдать (отсутствие масла, воды, пыли и примесей, а также требования к предварительной обработке циркулирующей воды), необходимо применять разные методы очистки. Процессы очистки можно разделить на четыре категории: омывание под давлением, циркуляционная очистка, замачивание (метод замачивания в резервуаре и метод полного погружения) и протирание.