امریکہ کی جدید ترین اینٹی-آسموسس انرجی بچانے والی ٹیکنالوجیاں
Thread Content
اس پوسٹ کو آخری بار slll611 نے 5 جولائی 2016، ساعت 20:51 پر ترمیم کیا۔ کولائیڈز کا بکھرنا اور جمنا، الیکٹروسٹیٹک قوتوں (دافعانہ قوتوں) اور وان ڈر والس قوتوں (کششی قوتوں) کے ذریعہ ہی ممکن ہے۔； چونکہ بکھرے ہوئے ذرات کی سطح پر چارج موجود ہوتا ہے، اس لیے یہ اپنے ارد گرد موجود الٹ چارج والے آئنوں کو اپنی طرف کھینچتے ہیں۔ یہ الٹ چارج والے آئن دونوں فیزوں کی سرحد پر پھیل جاتے ہیں، جس سے ایک “ڈفیوژنل ڈائی الیکٹرک لیئر” تشکیل پاتا ہے۔ اسٹرن کی ڈبل الیکٹروسٹیٹک لیئر تھیوری کے مطابق، ڈبل الیکٹروسٹیٹک لیئر کو دو حصوں میں تقسیم کیا جا سکتا ہے، یعنی اسٹرن لیئر اور ڈفیوژن لیئر۔ اسٹرن پرت کو، الیکٹروڈ کی سطح پر موجود آئنوں (IHP یا OHP) کے چارج سینٹروں سے مل کر بننے والی ایک سطحی پرت کے طور پر بیان کیا جاتا ہے۔ اس سطحی پرت کے، سطح سے دور واقع مائع کے کسی نقطے کے مقابلے میں پیدا ہونے والے برقی پوٹینشل کو “اسٹرن پوٹینشل” کہا جاتا ہے۔ ستھری پرت (Stationary layer)، جس میں سٹرن پرت اور “اسلائپنگ پلین” بھی شامل ہے، اور پھر ڈفیوژن لیئر کے اندر موجود تقسیم کرنے والے مادہ کے درمیان جب نسبتی حرکت ہوتی ہے، تو اس کی سطح کو “اسلائپنگ پلین” کہا جاتا ہے۔ اس سطح سے دور واقع مائع کے کسی نقطے کی الیکٹروسٹیٹک پوٹینشل کو “زیٹا پوٹینشل” یا الیکٹروکیمیکل پوٹینشل (ζ-پوٹینشل) کہا جاتا ہے۔ DLVO نظریہ: اسے 1941 میں ڈرجگوئن اور لینڈاؤ نے، اور 1948 میں وروے اور اووربیک نے الگ الگ پیش کیا۔ لہٰذا، عموماً اس نظریے کا نام چار افراد کے ناموں کے پہلے حروف سے رکھا جاتا ہے۔ ڈی ایل وی او نظریہ کے مطابق، ان کا خیال ہے کہ کسی خاص حالت میں سول جیسے محلول کا استحکام، ذرات کے درمیان پائے جانے والے باہمی تعاملات کی وجہ سے ہی ممکن ہے۔ کُل پوزیشنل انرجی، وان ڈر والس کی کششی انرجی اور ڈبل الیکٹروسٹیک لیئر کی وجہ سے پیدا ہونے والی الیکٹروسٹیٹک دافعی انرجی کے مجموع کے برابر ہوتی ہے۔ یہ دونوں قسم کی توانائیاں، ذرات کے درمیان فاصلے کے فنکشن ہیں۔ کششی توانائی، فاصلے کے چھٹے درجے کے الٹے تناسب میں ہوتی ہے، جبکہ برقی ردِعمل سے پیدا ہونے والی توانائی، فاصلے کے ساتھ ایک انڈیکسی فنکشن کے ذریعے کم ہوتی ہے۔ ان دونوں توانائیوں کے درمیان کشش کی قوت، وین ڈر والس کشش (van der Waals attraction) ہے، جبکہ دفع کی قوت برقی الیکٹروسٹیٹک دفع (electrostatic repulsion) ہے۔ یہ دو متضاد قوتیں ہی کولائیڈ کی استحکام کا تعین کرتی ہیں۔ زیٹ راڈ میں الیکٹروکیمیائی تکنیکوں کا استعمال کیا جاتا ہے؛ اس کے لئے ایک عایقی الیکٹرود، یعنی راڈ الیکٹرود، پائپ لائنوں یا واٹر ٹینکوں میں داخل کیا جاتا ہے، تاکہ یہ پانی میں موجود کولائیڈز پر اثر ڈال سکے۔ پاور سپلائی یونٹ، 90-240V کی برقی فریکوئنسی والی برق کو 35KV کی اعلیٰ وولٹیج والی ڈائریکٹ کرنٹ میں تبدیل کرتا ہے۔ اس اعلیٰ وولٹیج کی بدولت الیکٹرود کی سطح پر کیپیسیٹیو فورس پیدا ہوتی ہے (یعنی زیٹا پوٹینشل)، جس سے کولائیڈز کی سطحی چارج کی شدت بڑھ جاتی ہے، اور ذرات کے درمیان الیکٹروسٹیٹک ردِعمل میں اضافہ ہوتا ہے، جس کی وجہ سے کولائیڈز مستحکم حالت میں تحلیل رہتے ہیں۔ ساتھ ہی، یہ ذرات کو برتنوں اور پائپوں کی سطح پر چپکنے سے روکتا ہے؛ جس سے ڈھانچے، چپکنے والے مادے کی تشکیل، اور بیکٹیریا و دیگر مائکروبوں کی نشوونما کو روکا جاتا ہے۔ چارجنگ اثر، بیوفلم کو ختم کرنے یا اسے یکساں بنانے کے لحاظ سے بھی بہت مؤثر ہے۔ (یہ کوئی جراثیم کش مادہ نہیں ہے۔) RO ریورس اوسموس آلات میں، پانی کی خارج ہونے کی شرح میں اضافہ ہوتا ہے، فلم کی عمر میں بھی اضافہ ہوتا ہے، اور آلے کی مجموعی کارکردگی بہتر ہوتی ہے۔ اسے حرارتی تبادلہ کرنے والے آلات، کولنگ ٹاورز، اور دھونے والے آلات میں بھی استعمال کیا جاسکتا ہے۔ فی الحال، کونشان اور لِن فوٹو الیکٹرانک ہائی ٹیک کمپنی لمیٹڈ، فوکوئی پریسیز کمپوننٹس (شنزین) لمیٹڈ، چانگچون کیمیکلز (چانگشو) لمیٹڈ، چانگچون کیمیکلز (میاولی) لمیٹڈ، فوکسکون گروپ کے فویونگ، سونگگانگ، تیانرین پلانٹس، جیوگوشان فوڈ کمپنی، پیپسی کولا کمپنی وغیرہ میں اس RO سسٹم کا استعمال کیا جارہا ہے، اور اس کے نتائج بہت اچھے ہیں۔ ریورس اوسموس کی وجہ سے پانی کی پیداوار میں 3-10 فیصد تک اضافہ ہوتا ہے، اور بار بار صفائی کرنے کے بعد یہ شرح اصل ڈیزائن کی شرح سے بھی زیادہ ہو جاتی ہے۔ ساتھ ہی، یہ دوا فلوکیولنٹ کی مقدار کو تقریباً 30 فیصد تک کم کر سکتی ہے؛ جبکہ فلوکیولنٹ کا استعمال بالکل بھی بند کیا جا سکتا ہے۔ اسی طرح، صفائی کے عمل کا وقت بھی بڑھ جاتا ہے، اور ریورس اوسموس فلم کی عمر بھی بڑھ جاتی ہے؛ جس کی وجہ سے توانائی کی کھپت کم ہو جاتی ہے۔
ریورس اوسموس آلات کا استعمال آج کل بہت وسیع پیمانے پر ہوتا ہے، جیسے سائنسی تحقیق، طب، خوراک، مشروبات، سمندری پانی کو صاف کرنے وغیرہ کے شعبوں میں۔ لیکن پھر بھی کچھ باتوں پر توجہ دینا ضروری ہے، تاکہ پانی کی گندگی کو کنٹرول کیا جاسکے۔
ایک سوال ہے، ہماری فیکٹری میں روزانہ تقریباً 50 ٹن غیر نامیاتی فضلہ پانی پیدا ہوتا ہے۔ اس پانی میں سوڈیم سلفیٹ کی مقدار 5000 ملی گرام/لیٹر ہے، جبکہ NaOH کی مقدار بہت کم ہے۔ اس پانی میں امونیا نائٹروجن موجود نہیں ہے۔ اس پانی کو کس طرح صاف کیا جاسکتا ہے؟ کیا ریورس اوسموس ٹیکنالوجی مناسب ہے؟ اس پیمانے کے لئے کتنی سرمایہ کاری کی ضرورت ہے؟
معذرت، ہم ریورس اوسموس آلات تیار نہیں کرتے، نہ ہی ان کا ڈیزائن کرتے ہیں۔ ڈیزائن کا کام تو مخصوص ڈیزائننگ ادارے یا آلات بنانے والی کمپنیاں ہی کرتی ہیں۔ ہم تو صرف ریورس اوسموس آلات کی کارکردگی کو بہتر بنانے، آپریشنل لاگت کو کم کرنے، پانی کی پیداواری صلاحیت کو بڑھانے، اور گندگی اور جرثومی پرتوں سے بچنے میں مدد کرتے ہیں۔ میرا ایک دوست باوگانگ ڈیزائننگ ادارے میں کام کرتا ہے؛ اگر آپ کو کوئی مدد درکار ہو تو آپ ان سے رابطہ کر سکتے ہیں۔
ہم اب توانائی کی کارکردگی کو بہتر بنانے کی کوشش کر رہے ہیں؛ اس سے دواؤں کی مقدار میں تقریباً 30 فیصد کمی واقع ہو سکتی ہے، جبکہ پتھری پیدا کرنے والے مواد کا استعمال تو بالکل بند ہی ہو سکتا ہے۔ پانی کی پیداواری صلاحیت، اصل ڈیزائن کی صلاحیت سے بھی زیادہ ہو سکتی ہے۔ البتہ، مختلف آلات کے لحاظ سے پیداواری صلاحیت میں فرق ہو سکتا ہے۔
کیا اسے پیٹرولیم کی صنعت میں بھی استعمال کیا گیا ہے؟ عام طور پر کس قسم کے فضلہ پانیوں کو ٹھکانے لگایا جاتا ہے؟
یہ چیز تقسیم کرنے کا کام کرتی ہے؛ یہ دنیا میں وہ واحد آلہ ہے جو بایولوجیکل فلموں کو ختم کر سکتا ہے۔ دوائیں بایولوجیکل فلموں کو ختم نہیں کر سکتیں۔ یہ نہ تو فضلہ پانی کو صاف کرنے والا آلہ ہے، نہ ہی کسی قسم کا جرثومہ کش، اور نہ ہی کوئی تقسیم کرنے والا مادہ۔ عام طور پر فضلہ پانی کو صاف کرنے کے لئے جیلیفائنگ ایجنٹس یا کونجوگیشن ایجنٹس استعمال کئے جاتے ہیں، تاکہ پانی میں موجود کولائیڈل ذرات جیلی کی شکل اختیار کرکے نیچے بیٹھ جائیں اور انہیں ختم کیا جا سکے۔ Zetarod، ذرات کی سطح پر چارج پیدا کرتا ہے؛ اس طرح ذرات اور پولی الیکٹرولائٹس کے درمیان کشش بڑھ جاتی ہے۔ جب ذرات کی توانائی بڑھ جاتی ہے، تو جیلیفائنگ ایجنٹس یا کونجوگیشن ایجنٹس کی مقدار کم ہو جاتی ہے۔ اس سے ذرات کے پولی الیکٹرولائٹس سے جڑنے کا وقت کم ہو جاتا ہے، جس کی وجہ سے گلنے یا جمنے کا عمل تیز ہو جاتا ہے۔ اس طرح گلانے والے یا جمانے والے مواد کی مقدار 20-50 فیصد تک کم کی جا سکتی ہے۔ فی الحال ہم اسے بنیادی طور پر ریورس اوسموس سسٹمز میں استعمال کرنے کی کوشش کر رہے ہیں۔ ریورس اوسموس سسٹمز کا مقصد پانی کی پیداوار کو بہتر بنانا، فلم کو صاف رکھنا، صفائی کے عمل کو طویل کرنا، اور فلم کی عمر کو بڑھانا ہے۔ ساتھ ہی، دواؤں کی مقدار میں بھی کمی واقع ہوئی۔ اصل پانی کی ریورس اوسموس عمل میں، اصل ڈیزائن کی صلاحیت سے زیادہ پانی حاصل کرنا ممکن ہے۔
براہ کرم، معلومات کی ایک نقل ای میل کے ذریعے بھیج دیجیے، ٹھیک ہے؟ سیکھو! سیکھو! 838140483QQ کا
یہ ٹیکنالوجی بہت اچھی ہے! ریورس اوسموس عمل کی مدد کرتا ہے، اور ریورس اوسموس کی کارکردگی کو بہتر بناتا ہے۔ اگر کوئی متعلقہ معلومات موجود ہوں، تو براہِ کرم انہیں 122536908 QQ پر بھیج دیں، بہت شکریہ!
اگر کوئی معلومات موجود ہوں، تو براہِ کرم اسے 1306880683@qq.com پر بھیج دیں، تاکہ میں اسے دیکھ سکوں۔ شکریہ!
تمام لوگوں کو ایک ہی جواب دیتا ہوں، میں نے بائیڈو کلاؤڈ پر ایک اکاؤنٹ بنایا ہے، تاکہ امریکی کمپنیوں سے متعلق تجزیے اور تجربات وہاں محفوظ کیے جاسکیں، آپ لوگ خود وہاں سے انہیں ڈاؤن لوڈ کر سکتے ہیں۔ یوزرنیم اور پاس ورڈ دونوں ہی 13818172587 ہیں۔
ہیلو، کیا آپ اعلیٰ دباؤ والی الیکٹروسٹیٹک تکنیک کا استعمال کرکے پانی کی صفائی کرتے ہیں؟ کیونکہ میں نے پہلے بھی دوسری جگہوں پر اس موضوع سے متعلق مقالے دیکھے ہیں، وہ چونگچنگ لاجسٹکس انجینئرنگ انسٹیٹیوٹ کی جانب سے شائع کیے گئے تھے، اور ان کے اصول بھی تقریباً ایک جیسے ہی ہیں۔~~
بہت اچھا لگ رہا ہے، شیئر کرنے کے لئے شکریہ۔
جی ہاں، یہ اعلیٰ وولٹیج والی الیکٹروسٹیٹک تکنیک ہے۔
جی ہاں، بالکل یہی بات ہے۔ دراصل تمام تکنیکی اصول بہت آسان ہوتے ہیں، لیکن انہیں کیسے دریافت کیا جائے، یہ الگ معاملہ ہے۔
ہاں، بالکل، اہم بات تو نتیجہ ہی ہے۔ آپ کی اس ٹیکنالوجی کا استعمال کن حدود میں ممکن ہے؟ مثلاً، پانی کی کُل سختی کو کس حد تک رکھنا چاہیے؟ کُل الکلینیٹی کی حد کیا ہے؟
براہ کرم، معلومات کی ایک نقل ای میل کے ذریعے بھیج دیجیے، ٹھیک ہے؟ سیکھو! سیکھو! 2651379902QQ شکریہ!