ریورس اوسموس آلات میں توانائی کی بچت کی ٹیکنالوجی، جس سے پانی کی پیداوار میں اضافہ ہوتا ہے، اور حیاتیاتی پرتوں کو روکنے اور ختم کرنے میں

Thread Content

اس پوسٹ کو آخری بار slll611 نے 2016-5-29 کو ساعت 13:59 پر ترمیم کیا۔ کولائیڈز کا بکھرنا اور جمنا، الیکٹروسٹیٹک قوتوں (دافعانہ قوتوں) اور وان ڈر والس کی قوتوں (کششی قوتوں) کے ذریعہ ہی ممکن ہے۔； چونکہ بکھرے ہوئے ذرات کی سطح پر چارج موجود ہوتا ہے، اس لیے یہ اپنے ارد گرد موجود مخالف الیکٹرونوں کو اپنی طرف کھینچتے ہیں۔ یہ مخالف الیکٹرون دونوں فیزوں کی سرحد پر پھیل جاتے ہیں، جس کے نتیجے میں ایک “ڈفیوژنل ڈائی الیکٹرک لیئر” تشکیل پاتا ہے۔ اسٹرن کے ڈبل الیکٹروسٹیٹک لیئر تھیوری کے مطابق، ڈبل الیکٹروسٹیٹک لیئر کو دو حصوں میں تقسیم کیا جاسکتا ہے، یعنی اسٹرن لیئر اور ڈفیوژن لیئر۔ اسٹرن پرت کو، الیکٹروڈ کی سطح پر موجود آئنوں (IHP یا OHP) کے چارج سینٹروں سے مل کر بننے والی ایک سطحی پرت کے طور پر بیان کیا جاتا ہے۔ اس سطحی پرت کے، سطح سے دور واقع مائع کے کسی نقطے کے مقابلے میں پیدا ہونے والے برقی پوٹینشل کو “اسٹرن پوٹینشل” کہا جاتا ہے۔ ستحکامی پرت (Stationary layer)، جس میں سٹرن پرت اور “اسلائپنگ پلین” بھی شامل ہے، اور پھر ڈفیوژن لیئر کے اندر موجود تقسیم کرنے والے مادہ کے درمیان جب نسبتی حرکت ہوتی ہے، تو اس کی سطح کو “اسلائپنگ پلین” کہا جاتا ہے۔ اس سطح سے دور واقع مائع کے کسی نقطے کی الیکٹروسٹیٹک پوٹینشل کو “زیٹا پوٹینشل” یا الیکٹروموٹیو پوٹینشل (ζ-پوٹینشل) کہا جاتا ہے۔ DLVO نظریہ: اسے 1941 میں ڈرجگوئن اور لینڈاؤ نے، اور 1948 میں ورورے اور اووربیک نے الگ الگ پیش کیا۔ لہٰذا، عموماً اس نظریے کا نام چار افراد کے ناموں کے پہلے حروف سے رکھا جاتا ہے۔ ڈی ایل وی او نظریہ کے مطابق، ان کا خیال ہے کہ کسی خاص حالت میں سول جھلی کا استحکام، ذرات کے درمیان پائے جانے والے باہمی تعاملات کی وجہ سے ہی ممکن ہے۔ کُل پوزیشنل انرجی، وان ڈر والس کی کششی انرجی اور ڈبل الیکٹروسٹیک لیئر کی وجہ سے پیدا ہونے والی الیکٹروسٹیٹک دافعی انرجی کے مجموع کے برابر ہوتی ہے۔ یہ دونوں قسم کی توانائیاں، ذرات کے درمیان فاصلے کے فنکشن ہیں۔ کششی توانائی، فاصلے کے چھٹے درجے کے الٹے تناسب میں ہوتی ہے، جبکہ الیکٹروستیٹک دافعی توانائی، فاصلے کے ساتھ ایک انڈیکس فنکشن کے ذریعے کم ہوتی ہے۔ ان دونوں توانائیوں کے درمیان کشش کی قوت، وین ڈر والس کشش (van der Waals attraction) ہے، جبکہ دفع کی قوت برقی الیکٹروسٹیٹک دفع (electrostatic repulsion) ہے۔ یہ دو متضاد قوتیں ہی کولائیڈ کی استحکام کا تعین کرتی ہیں۔ زیات راڈ میں الیکٹروکیمیکل ٹیکنالوجی کا استعمال کیا جاتا ہے؛ اس کے لئے ایک عایقی الیکٹرود، یعنی راڈ الیکٹرود، پائپ لائنوں یا واٹر ٹینکوں میں داخل کیا جاتا ہے، تاکہ یہ پانی میں موجود کولائیڈز پر اثر ڈال سکے۔ پاور سپلائی یونٹ، 90-240V کی برقی فریکوئنسی والی برق کو 35KV کی اعلی وولٹیج والی ڈائریکٹ کرنٹ میں تبدیل کرتا ہے۔ اس اعلی وولٹیج کی بدولت الیکٹرود کی سطح پر کیپیسیٹیو فورس پیدا ہوتی ہے (یعنی زیٹا پوٹینشل)، جس سے کولائیڈز کی سطحی چارج کی شدت بڑھ جاتی ہے، اور ذرات کے درمیان الیکٹروسٹیٹک ردِعمل میں اضافہ ہوتا ہے، جس کی وجہ سے کولائیڈز مستحکم حالت میں تحلیل رہتے ہیں۔ ساتھ ہی، یہ ذرات کو برتنوں اور پائپوں کی سطح پر چپکنے سے روکتا ہے؛ جس سے ڈھانچے، چپکنے والے مادے کی تشکیل، اور بیکٹیریا و دیگر مائکروبوں کی نشوونما کو روکا جاتا ہے۔ چارجنگ اثر، بیوفلمز کو ختم کرنے یا انہیں یکساں بنانے کے لحاظ سے بھی بہت مؤثر ہے۔ (یہ کسی قسم کا جرثومہ کش مادہ نہیں ہے۔) RO ریورس اوسموس آلات میں، پانی کی خارج ہونے کی رفتار میں اضافہ ہوتا ہے، فلم کی عمر میں بھی اضافہ ہوتا ہے، اور آلے کی کارکردگی بہتر ہوتی ہے۔ اسے حرارتی تبادلہ کاروں، کولنگ ٹاورز، اور واشنگ ٹاورز میں بھی استعمال کیا جاسکتا ہے۔ فی الحال، کونشان اور لِن فوٹو الیکٹرانک ہائی ٹیک کمپنی لمیٹڈ، فوکوئی پریسیز کمپوننٹس (شنزین) لمیٹڈ، چانگچون کیمیکلز (چانگشو) لمیٹڈ، چانگچون کیمیکلز (میاولی) لمیٹڈ، فوکسکان گروپ کے فویونگ، سونگگانگ، تیانرین پلانٹس، جیوگوشان فوڈ کمپنی، پیپسی کولا کمپنی وغیرہ میں اس RO سسٹم کا استعمال کیا جارہا ہے، اور اس کے نتائج بہت اچھے ہیں۔ ریورس اوسموس کی بدولت پانی کی پیداوار میں 3-10 فیصد تک اضافہ ہو سکتا ہے، اور بار بار صفائی کرنے کے بعد یہ شرح اصل ڈیزائن کی شرح سے بھی زیادہ ہو جاتی ہے۔ ساتھ ہی، یہ دوا فلوک انحصار کو تقریباً 30 فیصد تک کم کر سکتی ہے، جبکہ فلوک سپریشنٹ کی ضرورت بالکل ختم ہو سکتی ہے۔ اسی طرح، صفائی کے عمل کا وقت بڑھ جاتا ہے، اور ریورس اوسموس فلم کی عمر بھی بڑھ جاتی ہے؛ جس کی وجہ سے توانائی کی کھپت کم ہو جاتی ہے۔