Làm sạch hóa học thiết bị silic đa tinh thể

Thread Content

Mục đích của việc vệ sinh nhà máy silic đa tinh thể là để đảm bảo mức độ tinh khiết cao; đây là một hệ thống hóa chất có quy trình sản xuất phức tạp và sử dụng nhiều loại thiết bị khác nhau (một số thiết bị còn có tính chất tương tự như các thiết bị dùng trong ngành luyện kim và công nghệ bán dẫn). Để giảm thời gian xử lý làm sạch trong quá trình điều chỉnh hệ thống công nghệ, từ đó giảm chi phí điều chỉnh xuống mức tối thiểu (vì tỷ lệ sản phẩm bị hỏng cao trong giai đoạn làm sạch hệ thống, khiến giá trị của sản phẩm đầu ra thấp), cần phải tiến hành việc làm sạch các thiết bị và đường ống công nghệ trước khi lắp đặt chúng. Điều này giúp cho nhà máy có thể sớm sản xuất được sản phẩm silic đa tinh thể có độ tinh khiết cao. Tùy vào các yêu cầu về quy trình sản xuất, chất liệu của thiết bị, loại thiết bị, cũng như các yêu cầu về việc làm sạch và các tiêu chuẩn cần đạt được (như không còn dầu, nước, bụi bẩn hay tạp chất; đồng thời phải đảm bảo nước sử dụng trong quá trình làm sạch đã được xử lý kỹ lưỡng), người ta cần áp dụng các phương pháp làm sạch khác nhau. Có bốn loại phương pháp làm sạch chính: làm sạch bằng phun nước, làm sạch bằng phương pháp tuần hoàn, làm sạch bằng cách ngâm thiết bị trong dung dịch (phương pháp ngâm trong bể hoặc phương pháp tưới dung dịch lên thiết bị), và làm sạch bằng cách lau chùi.