メタノールセクション 毎日一問 触媒による水素還元時の注意点は何ですか？2016.04.09
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この投稿は最後にTH373637によって2016-4-9 14:44に編集されました。メタノールセクション 毎日一問 触媒による水素還元時の注意点は何ですか？ 2016.04.09 触媒水素還元の注意点は何ですか？ 答：1）水素化する際は、必ず均一かつゆっくりと行い、急ぎすぎたり速すぎたりしてはいけません。過度な水素化は触媒の激しい反応を引き起こしやすく、局部的な焼結や急速な水分放出を招く。これにより触媒粒子が急速に膨張・成長し、活性が低下し、深刻な場合には炉内の触媒全体が使用不能になる。2）水素添加時は温度上昇させず、温度上昇時は水素を添加しないこと。3）温度上昇速度を25℃/h以下に厳格に制御し、排水量は20～40キログラム/時間、平面（端面も含む）の温度差は5℃未満とする。
4）温度上昇は起動用蒸気によって行い、水素反応熱を用いて温度を調節することは厳禁である。5）各段階における水素濃度の要件を厳格に管理する。各温度レベルにおいて、入口および出口の水素濃度は一致していなければならない。6）還元終了段階では、排水量が理論値に達し、温度が230℃になり、入口および出口の水素濃度が一致した場合にのみ、終了することができる。この時、水素添加の総量を記録する必要がある。
1）水素化する際は、必ず均一かつゆっくりと行い、急ぎすぎたり速すぎたりしてはならない。過度な水素化は触媒の激しい反応を引き起こしやすく、局部的な焼結や急速な水分放出を招く。これにより触媒粒子が急速に膨張・成長し、活性が低下し、深刻な場合には炉内の触媒全体が使用不能になる。2）水素添加時は温度上昇させず、温度上昇時は水素を添加しないこと。
3）温度上昇速度を25℃/h以下に厳格に制御し、排水量は20～40キログラム/時間、平面（端面も含む）の温度差は5℃未満とする。
4）温度上昇は起動用蒸気によって行い、水素反応熱を用いて温度を調節することは厳禁である。5）各段階における水素濃度の要件を厳格に管理する。各温度レベルにおいて、入口および出口の水素濃度は一致していなければならない。6）還元終了段階では、排水量が理論値に達し、温度が230℃になり、入口および出口の水素濃度が一致した場合にのみ、終了することができる。この時、水素添加の総量を記録する必要がある。
3）温度上昇速度を25℃/h以下に厳格に制御し、排水量は20～40キログラム/時間、平面（端面も含む）の温度差は5℃未満とする。
4）温度上昇は起動用蒸気によって行い、水素反応熱を用いて温度を調節することは厳禁である。5）各段階における水素濃度の要件を厳格に管理する。各温度レベルにおいて、入口および出口の水素濃度は一致していなければならない。6）還元終了段階では、排水量が理論値に達し、温度が230℃になり、入口および出口の水素濃度が一致した場合にのみ、終了することができる。この時、水素添加の総量を記録する必要がある。
（1）水素添加時は必ず均一かつゆっくりと行い、急激に速くすることは絶対に避けるべきです。過度な水素化は触媒の激しい反応を引き起こしやすく、局部的な焼結や急速な水分放出を招く。これにより触媒粒子が急速に膨張・成長し、活性が低下し、深刻な場合には炉内の触媒全体が使用不能になる。 （2）水素添加時は温度を上げず、温度上昇時は水素を添加しないこと。（3）温度上昇速度を25℃/h以下に厳格に制御し、排水量は20～40キログラム/時間、平面（端面も含む）の温度差は5℃未満にすること。（4）温度上昇は起動用蒸気によって行い、水素反応熱を用いて温度を調節することは厳禁である。 （5）各段階における水素濃度の要件を厳格に管理する。各温度レベルにおいて、入口および出口の水素濃度は一致していなければならない。 （6）還元終了段階では、排水量が理論値に達し、温度が230℃になり、入口および出口の水素濃度が一致していることを記録して初めて終了できる。この時、水素添加の総量を記録する必要がある。
触媒による水素還元の際の注意点は何ですか？ 答え：1）水素を加える際は、必ず均一かつゆっくりと行い、急激に速く行ってはいけません。
1、水素添加時は必ず均一かつゆっくりと行い、急ぎすぎたり速すぎたりしてはならない。過度な水素化は触媒の激しい反応を引き起こしやすく、局部的な焼結や急速な水分放出を招く。これにより触媒粒子が急速に膨張・成長し、活性が低下し、深刻な場合には炉内の触媒全体が使用不能になる。2、水素添加時は温度上昇させず、温度上昇時は水素を添加しないこと。
3、温度上昇速度を25℃/h以下に厳格に制御し、排水量は20～40キログラム/時間、平面（端面も含む）の温度差は5℃未満とする。
4、温度上昇は起動用蒸気によって行い、水素反応熱を用いて温度を調節することは厳禁である。5、各段階における水素濃度の要件を厳格に管理する。各温度レベルにおいて、入口および出口の水素濃度は一致していなければならない。6、還元終了段階では、出水量が理論値に達し、温度が230℃になり、入口および出口の水素濃度が一致していることを記録して初めて終了できる。この時、水素添加の総量を記録する必要がある。
3、温度上昇速度を25℃/h以下に厳格に制御し、排水量は20～40キログラム/時間、平面（端面も含む）の温度差は5℃未満とする。
4、温度上昇は起動用蒸気によって行い、水素反応熱を用いて温度を調節することは厳禁である。5、各段階における水素濃度の要件を厳格に管理する。各温度レベルにおいて、入口および出口の水素濃度は一致していなければならない。6、還元終了段階では、出水量が理論値に達し、温度が230℃になり、入口および出口の水素濃度が一致していることを記録して初めて終了できる。この時、水素添加の総量を記録する必要がある。
反応による発熱は、冷却水やボイラーの水を使って熱を取り除き、熱回収を行う必要がある。
答：1）水素化する際は、必ず均一かつゆっくりと行い、急ぎすぎたり速すぎたりしてはいけません。過度な水素化は触媒の激しい反応を引き起こしやすく、局部的な焼結や急速な水分放出を招く。これにより触媒粒子が急速に膨張・成長し、活性が低下し、深刻な場合には炉内の触媒全体が使用不能になる。 2）水素添加時は温度上昇させず、温度上昇時は水素を添加しないこと。
3）温度上昇速度を25℃/h以下に厳格に制御し、排水量は20～40キログラム/時間、平面（端面も含む）の温度差は5℃未満とする。
4）温度上昇は起動用蒸気によって行い、水素反応熱を用いて温度を調節することは厳禁である。 5）各段階における水素濃度の要件を厳格に管理する。各温度レベルにおいて、入口および出口の水素濃度は一致していなければならない。 6）還元終了段階では、排水量が理論値に達し、温度が230℃になり、入口および出口の水素濃度が一致した場合にのみ、終了することができる。この時、水素添加の総量を記録する必要がある。
3）温度上昇速度を25℃/h以下に厳格に制御し、排水量は20～40キログラム/時間、平面（端面も含む）の温度差は5℃未満とする。
4）温度上昇は起動用蒸気によって行い、水素反応熱を用いて温度を調節することは厳禁である。 5）各段階における水素濃度の要件を厳格に管理する。各温度レベルにおいて、入口および出口の水素濃度は一致していなければならない。 6）還元終了段階では、排水量が理論値に達し、温度が230℃になり、入口および出口の水素濃度が一致した場合にのみ、終了することができる。この時、水素添加の総量を記録する必要がある。
三低三稳三不准：低温での排水、低水素濃度による還元、還元後の低負荷での生産。温度は安定させ、排水量も安定させ、水素濃度も安定させる。水素濃度を上げつつ温度を上げてはならず、温度を上げつつ排水を続けてはならず、二酸化炭素や一酸化炭素を用いた還元も禁止される。