塩素プロセスの電解槽陰極の操作圧力を500mmH2Oに制御する根拠は何ですか？
Thread Content
塩素工程用電解槽では、陰極圧力を500ミリ水柱に制御し、その限界値を300～600ミリ水柱超えると遮断される。では、なぜ400や600、あるいは他の値ではなく500ミリ水に抑えるのでしょうか。ちょっと難しい質問かもしれませんが、何か理由があるはずです。専門家の方に詳しく説明していただければ幸いです。ありがとうございます！
この投稿は最後にguitarpro0724によって2016-8-8 13:37に編集されました。塩素処理の仕組みはあまりよくわかりませんが、投稿者が言及している500mmの水柱というのは圧力差のことでしょうか？ 旭化成電槽、圧力差は400mm水柱で制御。なぜこの値になるのかというと、個人的には以下の点があると思います。1、この値によってフィルムがアノードメッシュに密着することが保証される。2、この値の設定は市場に出回っているほとんどのフィルムのパラメータに関連しており、圧力が高すぎてフィルムが損傷することがない。（圧迫傷）3、ゼロ電位のカソードメッシュと関連しており、メッシュの目数や編み糸の直径は、圧力がかかる状況下でフィルムに影響を与える。4、アノードメッシュの強度に関連し、圧力差が大きすぎるとアノードメッシュが変形してしまいます。 （参考用）