2012年専門試験問題22（あるシリコーン装置におけるHClを含む2種類の排ガスの生成）
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22. あるシリコーン製造装置の生産工程で、HClを含む2つの排ガスが発生する。これらのガス中のHClを回収するため、吸収塔を用いて20℃の清水で処理することとした。1つのガス流れの量は146kmol/hで、HClの含有率はモル分率で10％であり、塔の底部から供給される； もう一つの流量は108kmol/hで、HCl含有量は4％です。これは吸収塔の最適な投入位置で別途加えられます。吸収塔は常圧で運転され、運転条件におけるヘンリー定数は2.786×10^5 Paです。HClの総回収率を95％以上に保つためには、吸収塔の上段における実際の液気比を、最小液気比の1.2倍とします。この場合、吸収塔に必要な吸収剤の投入量（kmol/h）は、以下のうちどの値になりますか？ A 254 B 698 C 754 D 838 この問題は以前にも議論され、最終的に答えはBが採用されました。プロセスは、投入材料の濃度が4％として計算されています。しかし、問題文から吸収過程を見ると、気相の濃度はますます低くなるはずなので、供給濃度は10％として計算すべきである。このように計算した結果は737で、答えはCを選ぶべきです。
まず、上段の吸気位置は下段の濃度が4％になる場所であることを明確にする必要があります。 この問題は上段の計算方法に従うしかなく、下段の方法を使うと上下の気量が異なり基準も違うため、Yの値が間違いやすくなる。正確に計算すると701です。0.04で計算すると698になります。