Aspenによる濃硫酸を用いたアセチレン精製工程のシミュレーション
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濃硫酸を使ってアセチレン工程を浄化することをシミュレーションした人はいますか？ここには多くの電解質が含まれています。Aspenを初めて使う際にこの課題が割り当てられ、以前に誰かがシミュレーションした例も見つかりませんでした。経験豊富な方々、ご教示いただけますと幸いです。
電解質ガイドを使って、不要な塩類を除去すればよい
不要な塩類とはどういう意味ですか？塩も水の中では電離するのではないですか？考慮しないの？
試してみればわかります。水素化物などがたくさんあったり、結晶化した固体塩もあります。もし自分のシステムでは何も結晶化しないだろうと判断できるなら、それを排除すれば収束しやすくなります
では、予備アルカリ洗浄塔内の液体にNa3PO4が含まれていて、その量がごくわずかで結晶化せず、単に溶液中で電離しているだけの場合、その電離反応は考慮しなくてもよいのでしょうか？この物質が存在しないと仮定した場合は？
電離は考慮しなければならない。まず試してみればわかる。電解質ガイドが生成されると、Na3PO4▪2H2OやNa3PO4▪2H2O(S)、Na3PO4(S)といった多くの物質ができる。もちろん電離平衡は考慮すべきだが、溶解度範囲内であれば結晶平衡は考える必要はない。つまり、Na3PO4(S)は考慮しなくてよく、他のものも同様だ
濃硫酸を用いたアセチレン工程の洗浄にASPENシミュレーションを用いる目的は何か。運用の最適化のためなのか、それとも単にシミュレーションのためなのか。省エネの余地はあるのか？