【一問一答 第206題】2016.11.12
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【質疑応答 第206問】2016年11月12日 なぜ触媒の予備硫化時に、硫化水素が浸透する前に、床層温度を230度以上にしてはいけないのか？ 返信すると解答例が見られ、ポイントを押さえて答えれば得点できます。 予硫化プロセスにおいて、硫化水素が触媒に浸透する前に温度が230℃を超えると、酸化状態にある触媒が金属単体に還元されてしまい、その結果、触媒の活性が低下し、予硫化効果に悪影響を与えます。 2016年のQ&Aまとめスレッド（11月まで更新済み~~~~）「2016海川ベストメンバー10選出活動」のスポンサー募集 http://bbs.hcbbs.com/thread-1628108-1-1.html（出典：海川化工フォーラム）
触媒の予硫化過程において、硫化水素が触媒内に浸透する前に温度が230℃を超えると、酸化状態にある触媒が水素によって金属単体に還元され、その結果触媒の活性が低下し、触媒の硫化効果に影響を与えるからである。
触媒は金属の酸化態であり、温度が230を超えると水素ガスと還元反応を起こして不活性化する
これは、触媒の予硫化過程において、硫化水素が触媒内に浸透する前に温度が230℃を超えると、酸化状態にある触媒が水素によって金属単体に還元され、その結果触媒の活性が低下し、触媒の硫化効果に影響を与えるためです。
この温度を超えると、既に硫化された触媒の活性が高まり他の反応にも関与し始めるため、硫化が不均一になると思われます。
230を超えると過熱しやすく、硫化が早すぎ、反応熱が多すぎるため、必ず一定温度に保つ必要がある
予硫化プロセスにおいて、硫化水素が触媒に浸透する前に温度が230℃を超えると、酸化状態にある触媒が金属単体に還元されてしまい、その結果、触媒の活性が低下し、予硫化効果に悪影響を与えます。
温度が高い場合、酸化状態にある触媒は水素によって金属単体に還元され、その結果触媒の活性が低下し、触媒の硫化効果に影響を与えます