Menembak menggunakan wap

Pos ini kali terakhir diubah suai oleh ylb913 pada 2015-6-8 11:59. 1. Saya sendiri hanya menyertai satu sesi ujian tembakan menggunakan saluran wap seberat 35kg sahaja. Berikut adalah butiran berkaitan rancangan ujian tembakan tersebut: Semasa proses pembersihan saluran, kaedah giliran digunakan untuk membersihkan setiap bahagian saluran tersebut. Kadar keberkesanan ujian tembakan haruslah tidak kurang daripada 1 (Kadar keberkesanan = kuasa dua aliran wap semasa ujian tembakan × isipadu relatif wap semasa ujian tembakan / kuasa dua aliran wap pada beban nominal × isipadu relatif wap pada beban nominal). Biasanya, ia merupakan sekitar 55%-60% daripada jumlah penggunaan wap secara keseluruhan. Jumlah wap yang digunakan untuk proses pembersihan adalah kira-kira 8 tan/jam. Sebelum memasang panel sasaran, perlu dilakukan proses pembersihan dengan tekanan stabil sebanyak dua kali, dan juga proses pembersihan dengan tekanan yang lebih rendah sebanyak dua kali. Masa pemasangan panel sasaran ditentukan berdasarkan keadaan aliran cecair dalam saluran paip tersebut. Proses pembersihan menggunakan wap dilakukan secara berulang, mengikut urutan peningkatan tekanan – penstabilan tekanan – penurunan tekanan semula. Iaitu: Panaskan paip selama 3–4 jam (untuk kali pertama) – Bersihkan dengan kadar 8 t/h selama 20 minit – Sejukkan paip selama 1 jam (atau hingga suhu kurang dari 100°C) – Bersihkan lagi dengan kadar 8 t/h selama 15 minit – Sejukkan paip selama 12–18 jam – Panaskan paip sekali lagi selama 2–3 jam – Bersihkan dengan kadar 8 t/h selama 15 minit – Sejukkan paip selama 1 jam – Bersihkan dengan kadar 10 t/h selama 15 minit – Hentikan aliran wap dan pasang plat sasaran – Bersihkan lagi dengan kadar 8 t/h selama 10 minit – Ulangi proses pembersihan tersebut sebanyak 10 minit lagi – Hentikan aliran wap dan periksa keadaan plat sasaran. Jika plat sasaran tidak memenuhi syarat, biarkan paip sejuk selama 12–18 jam sebelum memulakan proses pembersihan sekali lagi, sehingga plat sasaran memenuhi syarat yang ditetapkan. 2. Kita menggunakan wap seberat 35kg untuk proses tersebut. 3. Keperluan untuk menembak adalah dengan menggunakan aliran wap mengikut nilai yang ditetapkan. Namun, disebabkan penurunan tekanan, aliran wap yang digunakan sebenarnya haruslah tidak kurang daripada kadar aliran yang ditetapkan. 4. Sebelum proses penyedut wap dan ujian tembakan dilakukan, kami akan memukul setiap sambungan kimpalan menggunakan tukul. Saya tidak menyaksikan proses ini secara langsung, tetapi saya rasa ia merupakan langkah yang sangat penting! 5. Kita berjaya menembak sasaran sekali sahaja; ia merupakan saluran yang tidak mempunyai cabang, jadi ia agak mudah.

Untuk wap, disyorkan penggunaan wap tekanan sederhana; semasa proses pembersihan, ketuk dinding tiub tersebut

Kita semua menggunakan udara bertekanan untuk menembak sasaran. Berhati-hati agar wap tidak menyebabkan kecederaan.

Biasanya, wap tekanan sederhana sahaja yang digunakan untuk proses pembentukan plat; wap tekanan rendah pula hanya digunakan untuk tujuan pembersihan

Biasanya, kawasan untuk menembak memerlukan tahap kebersihan yang sangat tinggi, serupa dengan kawasan masuk turbin wap. Semasa menembak, perlu berhati-hati terhadap suhu wap bertekanan sederhana. Pada permulaan proses pembersihan, dinding tiub boleh dipukul

Satu, gunakan wap mengikut keperluan sistem sebanyak mungkin. Dua, lakukan proses penyedutan dengan aliran yang tinggi. Tiga, buka injap tujuan dengan cepat setelah berlaku tekanan berlebihan

Tekanan wap di unit saya ialah 3.82 Mpa. Proses ujian penggunaan wap telah dilakukan selama 23 hari. Sistem wap kami memerlukan standard yang sangat ketat. Kaedah letupan berkala digunakan, dan pada peringkat akhir ujian, keping sasaran diperiksa setiap 2 jam sekali.