HCBBS Forum (Português)
Submit Chemical Projects / Find Solutions
Amplify Your Requirements on a Broader Chemical Platform *Engineering · Technology · Equipment · Solutions*
Submit Request

Durante a produção normal do forno de síntese de enxofre, a válvula borboleta localizada atrás do forno fica completamente aberta, ou é mantido um certo diferencial de pressão entre a parte frontal do forno e o restante do sistema?

2016-07-25View Original

Thread Content

Durante a produção normal do forno de síntese de enxofre, a válvula borboleta localizada atrás do forno fica completamente aberta, ou é mantido um certo diferencial de pressão entre a pressão na frente do forno e a pressão no sistema? Recentemente, a temperatura na conexão entre o forno de produção de enxofre e o tanque residual está um pouco alta. Será que o revestimento protetor de porcelana não vai ter problemas? Será que é necessário ajustar um pouco a válvula borboleta localizada atrás do forno?
Reply #22016-07-25
Aberto ao máximo. Quanto à placa frontal do caldeirão de calor residual, deve haver uma janela para se poder visualizá-la.
Reply #32016-07-26
Obrigado por esclarecer minhas dúvidas, mas não conseguimos ver esse tubo de suporte aqui

Submit a Project

**Looking for Chemical Technology, Equipment & Solutions?** No Registration Required Broader Platform Exposure | Global Chemical Service Provider Connections

Submit Request — Free Consultation

Disclaimer

This is an automated machine translation of the original thread. Some technical terms may have inaccuracies; the original text shall prevail. Click "View Original" at the top right to access the source page, which supports IP-based automatic real-time language translation. Please watch out for contact details and sales inducements to prevent fraud. All content and translations are for reference only, representing solely the poster's personal views. For enquiries, email service@hcbbs.com.