HCBBS Forum (العربية)
Submit Chemical Projects / Find Solutions
Amplify Your Requirements on a Broader Chemical Platform *Engineering · Technology · Equipment · Solutions*
Submit Request

ما هو الضغط المطلوب لمصدر الغاز المستخدم في تنظيف أنابيب الأجهزة الجديدة، وما هي الاحتياطات الواجب اتخاذها؟

2016-01-05View Original

Thread Content

ما هو الضغط المطلوب لمصدر الغاز المستخدم في تنظيف أنابيب الأجهزة الجديدة، وما هي الاحتياطات الواجب اتخاذها؟
Reply #22016-01-05
يجب أن يكون الضغط أقل من ضغط الغاز المستخدم في الأجهزة، أي أقل من 0.6 ميجا باسكال، وذلك لتجنب تلف صمامات الأنابيب والأجهزة. بالطبع، يعتمد الأمر أيضًا على حالة الجهاز نفسه؛ فإذا كانت الأنابيب متسخة أو طويلة ومعقدة، فيلزم تنظيفها على مراحل، ويمكن في هذه الحالة رفع الضغط قليلاً.
Reply #32016-01-05
عادةً ما يكون حوالي 6 كيلوغرامات، لكن يتم تحديد ذلك أولاً بناءً على مستوى ضغط الأنابيب، ثم ضغط مصدر الغاز. ملاحظة: الدعم أولاً ثم الأساس، فحص الأهداف وما إلى ذلك
Reply #42016-01-05
عادةً ما يكون 0.6 ميجا باسكال و1.0 ميجا باسكال
Reply #52016-01-06
مصدر الهواء في محطة الضغط الخاصة بي كافٍ تمامًا للاستخدام:lol:lol
Reply #62016-01-06
ألقِ نظرة على مستوى الضغط المصمم لأنابيبك، فعادةً ما يكون ضغط الهواء المضغوط حوالي 0.6، وأحيانًا قد يُستخدم مضخة ضغط.

Submit a Project

**Looking for Chemical Technology, Equipment & Solutions?** No Registration Required Broader Platform Exposure | Global Chemical Service Provider Connections

Submit Request — Free Consultation

Disclaimer

This is an automated machine translation of the original thread. Some technical terms may have inaccuracies; the original text shall prevail. Click "View Original" at the top right to access the source page, which supports IP-based automatic real-time language translation. Please watch out for contact details and sales inducements to prevent fraud. All content and translations are for reference only, representing solely the poster's personal views. For enquiries, email service@hcbbs.com.