पॉलीसिलिकॉन उपकरणों की रासायनिक सफाई

Thread Content

पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन उत्पादन संयंत्रों में सफाई का उद्देश्य, उच्च शुद्धता की आवश्यकता, जटिल प्रसंस्करण प्रक्रियाएँ, एवं विभिन्न प्रकार के उपकरणों का उपयोग है। ऐसे संयंत्र, कुछ हद तक धातुकर्म संबंधी प्रणालियों एवं अर्धचालक इलेक्ट्रॉनिक घटकों से संबंधित विशेषताओं वाली रासायनिक प्रण प्रक्रिया-प्रणाली के समायोजन के दौरान शुद्धिकरण प्रक्रिया में लगने वाले समय को कम करने, समायोजन संबंधी लागतों को न्यूनतम रखने हेतु (क्योंकि प्रणाली के शुद्धिकरण चरण में अपशिष्टों की मात्रा अधिक होती है, जिससे उत्पादों का मूल्य कम हो जाता है), एवं जल्द से जल्द उच्च शुद्धता वाले पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन उत्पादों का उत्पादन करने हेतु, प्रक्रिया-उपकरणों एवं पाइपलाइनों की स्थापना से पहले उनकी अच्छी तरह सफाई करना आवश्यक है। विभिन्न प्रक्रियात्मक आवश्यकताओं, उपकरणों की सामग्री, उपकरणों के प्रकार, सफाई संबंधी आवश्यकताओं, एवं आवश्यक मानकों (तेल-रहित, जल-रहित, धूल-रहित एवं अशुद्धि-रहित होना; साथ ही पुनर्चक्रित जल के लिए आवश्यक मानक) के आधार पर अलग-अलग सफाई विधियों का उपयोग करना आवश्यक है। सफाई प्रक्रियाओं को चार श्रेणियों में विभाजित किया जा सकता है – स्प्रे सफाई, पुनर्चक्रण द्वारा सफाई, डुबाकर सफाई (टैंक में डुबोकर सफाई एवं धोकर सफाई), एवं पोंछकर सफाई।