【一問一答第062題】2016.06.21

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【一問一答第062題】2016.06.21 催化剤の予硫化前に、システムに水素を導入する際の温度はどの程度に制御すべきか？なぜか？回答後に参考答案が示されるので、要点を押さえて答えれば得点できる。触媒の予硫化前に、システムに水素を導入する際の層内の最高温度は190未満でなければならない℃；触媒の水素還元を防ぐため。。

Reply #22016-06-21

180未満：無硫黄の場合、温度が高すぎると触媒が還元される

Reply #32016-06-21

床層のどの点でも230℃を超えてはならず、硫化剤としてDMDSを使用する場合は190℃から硫黄注入を開始し、二硫化炭素を使用する場合は175～180℃で硫黄注入が可能である

Reply #42016-06-21

水素を導入する際の温度は常温です。目的は水素脆化の発生を防ぐためです。

Reply #52016-06-21

150度セルシウス未満に保ち、触媒の還元を防ぐ。

Reply #62016-06-21

温度制御の最高温度は190未満でなければならない℃；触媒の水素還元を防ぐため。

Reply #72016-06-21

水素を装置に導入する際、層の最高温度は150℃未満でなければならない。硫化水素が触媒層を通過する前に、層の最も高い位置の温度は230℃を超えない。水素による触媒の金属成分の還元作用を避ける

Reply #82016-06-21

150度に制御し、触媒の還元を防ぐ

Reply #92016-06-21

触媒の予硫化前に、システムに水素を導入する際の層内の最高温度は190未満でなければならない℃；触媒の水素還元を防ぐため

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