Thread Content
В отрасли фотоэлектроники основными компонентами оборудования для получения сверхчистой воды являются блок предварительной обработки, блок основной процедуры обратного осмоса и блок последующей обработки. Оборудование для получения сверхчистой воды удаляет практически все проводящие вещества из исходной воды; кроме того, оно снижает до минимума содержание неразложимых коллоидных веществ, газов и органических веществ. Принципы работы оборудования для получения сверхчистой воды в фотоэлектронной промышленности. Процесс обмена происходит в специальных камерах модуля, где смолы для обмена анионами заменяют анионы, содержащиеся в растворенных солях (например, хлорид-ионы Cl), на ионы гидроксида (OH). Соответственно, катионные смолы обменивают свои ионы водорода (H) на катионы, содержащиеся в растворенных солях (например, Na). Между анодом (+) и катодом (-), расположенными на концах модуля, создается постоянное электрическое поле. Потенциал заставляет ионы, обмененные на смолу, мигрировать вдоль поверхности частиц смолы и проникать через мембрану в камеру с концентрированным раствором. Анод притягивает отрицательно заряженные ионы (такие как OH, Cl). Эти ионы проходят через анионную мембрану в соседний поток концентрированной жидкости, но блокируются катионной селективной мембраной, в результате чего остаются в потоке концентрированной жидкости. Катод притягивает катионы в чистой воде (например, H, Na). Эти ионы проходят через катионную селективную мембрану и попадают в соседний поток концентрированной жидкости, но остаются в нем из-за барьера, создаваемого анионной мембраной. 【Лайтлед Шанхай – компания по производству оборудования для обработки воды www.shanghaishui.com】 Особенности оборудования для получения сверхчистой воды в фотоэлектронной промышленности: 1. Высокий уровень автоматизации; при возникновении неисправностей оборудование автоматически останавливается, имеется функция автоматической защиты. 2. Мембранная установка изготовлена из композитной мембраны, что обеспечивает более высокий процент разделения растворенных веществ и скорость пропускания. 3. Низкое энергопотребление, высокий уровень использования воды, низкие операционные затраты. 4. Рациональная конструкция, малая площадь занимаемой территории. 5. Современная система защиты мембраны: при выключении оборудования вода, полученная в результате денатурации, автоматически смывает загрязнения с поверхности мембраны, тем самым увеличивая срок её службы. 6. В системе нет изнашиваемых компонентов, не требуется частного технического обслуживания, она работает эффективно в течение длительного времени. 7. В конструкции оборудования предусмотрена система очистки мембраны и система противонакипного защиты. Надеюсь, мы сможем учиться друг у друга, обмениваться мнениями и вместе совершенствоваться.
Особенности оборудования для получения сверхчистой воды в оптоэлектронной промышленности: 1. Высокий уровень автоматизации; при возникновении неисправностей оборудование автоматически останавливается, имеется функция автоматической защиты. 2. Мембранная установка изготовлена из композитной мембраны, что обеспечивает более высокий процент разделения растворенных веществ и скорость пропускания. 3. Низкое энергопотребление, высокий уровень использования воды, низкие операционные затраты. 4. Рациональная конструкция, малая площадь занимаемой территории. 5. Современная система защиты мембраны: при выключении оборудования вода, полученная в результате денатурации, автоматически смывает загрязнения с поверхности мембраны, тем самым увеличивая срок её службы. 6. В системе нет изнашиваемых компонентов, не требуется частного технического обслуживания, она работает эффективно в течение длительного времени. 7. В конструкции оборудования предусмотрена система очистки мембраны и система противонакипного защиты.