水素化反応器の給料方法に関する質問ですが、専門家の方にご解答いただけますと幸いです。よろしくお願いします！
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当社のカーボン4原料用水素化反応器は、主にオレフィンなどの不飽和炭化水素を水素化によって飽和化し、また硫黄、窒素、酸素を含む化合物を精製して除去するもので、その給料方式は「上から入り下から出る」方式です。 隣接するある企業はアルキル化を手がけており、その原料はエーテル後のカーボン4である。原料の水素化前処理工程では、主にブタジエン部分を付加反応させて1-ブテンを生成し、その後1-ブテンを異性化させてシス・トランス-2-ブテンにするが、すべての水素化反応器の物質は「下から入り上から出る」方式である。 質問です：どちらも水素化処理ですが、なぜ使用される給料方法が異なるのでしょうか？なぜこのように設計したのでしょうか？原因は何ですか？
上から入り下から出る方式を滴下流動層といい、反応による温度上昇が大きく、層内温度の制御が難しい。不飽和炭化水素を飽和炭化水素に変換するため、入口温度と層内の過熱を防ぐことだけでよい；下から入り上から出る方式を鼓泡床と呼び、層の温度は非常に制御しやすい。このタイプの触媒は選択性が高く、炭素数4のアルキル化前段階の水素化処理においてブテンの含有量が少ないため、制御が不十分だとオレフィンが水素化され、単一オレフィンの収率に影響を与える
水素処理の前処理工程はどのようなものですか？水素化反応器を1基だけ設置すればいいのですか？