毎日1問、正解者には6つの富を報酬として、参加者には2つの富を報酬として与えます；第362題
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穴埋め問題：湿式アセチレン生成過程において、正の水封液面が頻繁に上昇する原因は_________、________である。 答：アセチレンガスの温度が高い；洗浄用水量が多い
湿式アセチレン発生過程において、正の水封液面が頻繁に上昇する原因は、アセチレンガスの温度が高いこと、冷却塔の液面が高いこと、_である。 週末楽しんでください！！！
湿式アセチレン発生過程において、正の水封液位が頻繁に上昇する原因は、___アセチレンの温度が高い______、____冷却塔の液位が高い______です。
水封液位が頻繁に上昇する原因は、（アセチレンガスの温度が高い）、（冷却塔の液位が高い）です。
湿式アセチレン発生過程において、正の水封液位が頻繁に上昇する原因は、_____アセチレンガスの温度が高い_____、___冷却塔の液位が高い_____です。
アセチレンガスの温度が高く、冷却塔の液面が高い
湿式アセチレン生成過程において、正の水封液面が頻繁に上昇する原因は、_アセチレンガスの温度が高い_こと、および__冷却塔の液面が高い__ことです。
湿式アセチレン発生過程において、正の水封液面が頻繁に上昇する原因は、__アセチレンガスの温度が高い__、__洗浄用水量が多い__です。
湿式アセチレン生成過程において、正の水封液面が頻繁に上昇する原因は、___アセチレンガスの温度が高い____、__洗浄用水量が多い______です。
答：アセチレンガスの温度が高い；冷却塔の液面が高い；........................
湿式アセチレン発生過程において、正の水封液面が頻繁に上昇する原因は、_アセチレンガスの温度が高い_こと、および__冷却塔の液面が高い_ことです。