2014، الساعة 21 صباحًا. كيف يتم حل الأسئلة الحقيقية المتعلقة بعملية التصفية؟
Thread Content
في صباح عام 2014، تم استخدام جهاز الترشيح بالألواح لترشيح محلول معلق تحت ضغط ثابت. كان الخليط المرشح غير قابل للضغط، وتم تجاهل مقاومة الوسط. فما هي نسبة الزيادة في القدرة على المعالجة عندما يزداد الضغط المستخدم في الترشيح بنسبة 50%، مع بقاء وقت الترشيح كما هو؟ أي من القيم التالية تمثل هذه النسبة؟ (أ) 50.0 (ب) 41.4 (ج) 26.3 (د) 22.5 كيف أحلها؟ من يستطيع مساعدتي، شكرًا!
آخر تحرير لهذه التدوينة كان بواسطة “شينغ يينغ سوي فنغ” في تاريخ 25 أغسطس 2016 الساعة 16:28.
معادلة الترشيح تحت ضغط ثابت: (V+Ve)² = K(θ+θe)A²
حيث أن K = 2kΔp/(1-S).
k هو ثابت خصائص المادة.
في حالة الترشيح تحت ضغط ثابت، عندما يمكن تجاهل مقاومة الوسط، فإن Ve=0 وθe=0، وبالتالي s=0.
إذن: V² = 2kΔpA²θ → V² ∝ Δp.
وبالتالي: ΔV/V = (√1.5 – 1) × 100% = 22.5%.
الإجابة الصحيحة هي D
معادلة الترشيح تحت ضغط ثابت: (V+Ve)² = K(θ+θe)A²
حيث أن K = 2kΔp/(1-S).
k هو ثابت خصائص المادة.
في حالة الترشيح تحت ضغط ثابت، عندما يمكن تجاهل مقاومة الوسط، فإن Ve=0 وθe=0، وبالتالي s=0.
إذن: V² = 2kΔpA²θ → V² ∝ Δp.
وبالتالي: ΔV/V = (√1.5 – 1) × 100% = 22.5%.
الإجابة الصحيحة هي D