還元炉の吸気速度
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還元炉の吸気速度、ノズルの形状、ノズルの配置は、還元炉内の流れ場や熱場に大きな影響を与え、還元炉の安定した運転や電力消費量とも関連している。国内外のさまざまな論文のデータによると、記載されている吸気速度は30～60m/sである（論文によって数値が異なり、シリコンコアの高さなどのパラメータと関係がある可能性がある）。皆さん、ご意見をお聞かせください。皆さんが考える最適な流速範囲はどのくらいでしょうか。
でも、みんなここの問題について話し合わないのですか？
30～60は誰が提供するのか、ご自身たちの供給量、吸気断面積、吸気圧力および炉内圧力を教えていただければ、より詳しく検討できます
気体は圧縮可能で、流体力学を見ればわかりやすいです。速度は内外の圧力差と関係があり、計算する際には閉塞圧力も考慮しなければなりません。流速が大きいほど乱流が強くなり、シリコンの沈着による表面層の更新に有利となる。ノズルの数や配置、そしてノズル穴のサイズも生産において非常に重要です
30～60m/sというのは、多結晶シリコンの運転に関する文献に記載されている数値シミュレーションの値です。私たちの吸気断面積は0.00271㎡で、供給量は約720m3/h、圧力損失は700kpaです。皆さんが運転時に一般的に制御している流速はどのくらいですか？
36対ですか、それとも40対ですか？ノズルは6mmです。堆積速度はどうですか？
静かに流れ去っていく、このような質問に答える人はもうほとんどいない
一般的なノズルの出口速度は80m/sで、横梁の速度は2mm/s未満になってはならない
還元炉のガス速度の計算はかなり複雑で、以前はこの流れ場や温度場について、本人でさえよく分かっておらず、ただ適当に嘘をついていた。Fluentソフトウェアをうまく使いこなすには、多くの時間がかかります。 気流の速度は音速の340m/sを超えることはありません。もし計算した値がこの数値を上回る場合は、考慮する必要があります。光ガスの流速が速すぎてもダメで、ガスが効果的な乱流分布を形成できるようにしなければなりません。生産を行う者は炉を安定して稼働させればいい。それだけ分かっていれば十分だ。還元炉の製造業者の方が、あなたよりも深く研究している。これを徹底的に理解するには多くの時間がかかる。だからといってずっと企業にいるべきではない。流体力学、熱伝達学、物質移動、化学プロセスシミュレーション、温度場モデル、数値解析――これらを理解できれば、間違いなく優秀な博士号取得者になれるだろう。でも、この問題を考えるとき、あなたは真剣に取り組んでいる。
現在、このノズル部の流速はメーカーによって大きく異なり、実際の値と文献値との間には依然として大きな差があります。以前の還元炉のノズル部の流速は計算上約167m/sで、TCS変換率は10.8％、沈着速度は68.47kg/hでした。この分野の経験をお持ちの方はいらっしゃいますか。