毎日1問、正解者には6つの富を、参加者には2つの富をプレゼント；第419題
Thread Content
穴埋め問題：VCM塩酸脱吸システムにおいて、解吸塔の解吸量が大きくなると、解吸される酸の濃度も高くなるため、再沸器の制御温度は 、一般的な制御温度は である。 答：高いほど；120℃以上；
再沸器の制御温度は【より高い】方が良く、制御温度は一般的に【110度以上】です。
VCM塩の酸脱吸システムにおいて、解吸塔での解吸量が多くなるほど解吸される酸の濃度も高くなり、再沸器の制御温度もより高く設定する必要があります。制御温度は一般的に110℃以上です。
VCM塩の酸脱吸システムにおいて、解吸塔での解吸量が多くなるほど解吸される酸の濃度も高くなり、再沸器の制御温度もより高く設定する必要がある。制御温度は一般的に120℃以上となる。
高いほど、110℃以上
VCM塩の酸脱吸システムにおいて、解吸塔の解吸量が大きくなるほど解吸される酸の濃度も高くなり、再沸器の制御温度はより低く設定する必要があり、制御温度は一般的にである。
VCM塩の酸脱吸システムにおいて、解吸塔の解吸量が多くなるほど解吸される酸の濃度も高くなり、再沸器の制御温度もより高く設定する必要がある。制御温度は一般的に110℃以上となる